Machine de revêtement par pulvérisation cathodique pour appliquer des couleurs arc-en-ciel

La pulvérisation cathodique magnétronique est une technique de dépôt physique en phase vapeur. Cette méthode permet de revêtir des métaux, des semi-conducteurs, des isolants et d'autres matériaux. Elle se caractérise par une capacité de dépôt élevée, une grande facilité d'utilisation et un film de revêtement très fin et lisse, avec une excellente adhérence. La pulvérisation cathodique magnétronique permet d'accroître la vitesse de pulvérisation en générant un champ magnétique à la surface de la cathode de la cible et en exploitant la contrainte exercée par ce champ sur les particules chargées pour augmenter la densité du plasma. Une machine de revêtement sous vide par pulvérisation cathodique magnétronique complète est composée de nombreux éléments, chaque système remplissant des fonctions spécifiques, pour obtenir un revêtement final de haute qualité. L'équipement de revêtement optique par pulvérisation cathodique magnétronique comprend une chambre à vide, des vannes, un système de pompage du vide, un système de mesure du vide, une cible cathodique, un appareil de mesure d'épaisseur de film, un système de contrôle électropneumatique, etc. La chambre à vide est l'élément principal de la machine ; ses dimensions sont déterminées par celles du substrat et les besoins de l'utilisateur. La chambre est fabriquée en acier inoxydable SUS304, un matériau résistant à la corrosion, plus durable que l'acier au carbone et facile d'entretien. La machine utilise une technologie de pulvérisation cathodique moyenne fréquence pour le dépôt de couches d'oxydes tels que l'oxyde de silicium et l'oxyde de niobium. Un contrôle d'épaisseur est effectué pour la fabrication de films décoratifs optiques. Le film ainsi obtenu présente une forte adhérence et une grande pureté, et permet le dépôt simultané de divers matériaux aux compositions variées.

Le procédé de changement de couleur progressif est généralement réalisé par pulvérisation cathodique magnétronique. Actuellement, la coque arrière de nombreux téléphones portables utilise un procédé de revêtement sous vide par dépôt physique en phase vapeur (PVD) pour obtenir un changement de couleur progressif. Bien sûr, les machines de revêtement optique et les machines de revêtement par évaporation peuvent également produire un effet arc-en-ciel à sept couleurs similaire, mais les dégradés de couleurs ne sont pas réguliers et la qualité reste inégale. La pulvérisation cathodique magnétronique est un type de dépôt physique en phase vapeur. Cette méthode de pulvérisation peut être utilisée pour revêtir des métaux, des semi-conducteurs, des isolants et d'autres matériaux. Elle se caractérise par une capacité de charge élevée, une facilité d'utilisation, un film de revêtement très fin et lisse, et une bonne adhérence.

La pulvérisation magnétronique permet d'accroître la vitesse de pulvérisation en introduisant un champ magnétique à la surface de la cathode de la cible et en exploitant la contrainte exercée par ce champ sur les particules chargées pour augmenter la densité du plasma. Une machine complète de revêtement sous vide par pulvérisation magnétronique est composée de nombreux éléments, chaque système remplissant des fonctions spécifiques, et permettant ainsi d'obtenir un revêtement final de haute qualité. L'équipement de revêtement optique par pulvérisation magnétronique comprend notamment une chambre à vide, des vannes, un système de pompage du vide, un système de mesure du vide, une cible cathodique, un appareil de mesure d'épaisseur de film et un système de commande électropneumatique.

Le corps principal de l'appareil de pulvérisation magnétron pour revêtement optique est une chambre à vide dont les dimensions sont déterminées par celles du substrat et la capacité de production de l'utilisateur. Fabriquée en acier inoxydable SUS304, cette chambre est résistante à la corrosion, plus durable que l'acier au carbone et facile d'entretien. L'appareil utilise une technologie de pulvérisation à moyenne fréquence pour le dépôt de matériaux oxydes tels que l'oxyde de silicium et l'oxyde de niobium. Un contrôle d'épaisseur est effectué pour la fabrication de films décoratifs optiques. Le film ainsi obtenu présente une forte adhérence et une grande pureté, et permet le dépôt simultané de divers matériaux de compositions différentes.