Filmska plast v izhlapevalnem viru segrevanja in izhlapevanja lahko delce membrane v obliki atomov (ali molekul) prenese v plinsko fazo. Pod vplivom visoke temperature izhlapevalnega vira atomi ali molekule na površini membrane dobijo dovolj energije, da premagajo površinsko napetost in izhlapevajo s površine. Ti izhlapevani atomi ali molekule obstajajo v plinastem stanju v vakuumu, tj. v plinsko faznem prostoru. Kovinski ali nekovinski materiali.
V vakuumskem okolju je mogoče izboljšati procese segrevanja in izhlapevanja membranskih materialov. Vakuumsko okolje zmanjša vpliv atmosferskega tlaka na proces izhlapevanja, zaradi česar je postopek izhlapevanja lažji. Pri atmosferskem tlaku je treba material izpostaviti večjemu tlaku, da premaga upor plina, medtem ko se v vakuumu ta upor močno zmanjša, zaradi česar material lažje izhlapi. Pri postopku izhlapevanja sta temperatura izhlapevanja in parni tlak materiala, ki izvira iz izhlapevanja, pomemben dejavnik pri izbiri materiala, ki izvira iz izhlapevanja. Pri Cd(Se,S) prevleki je temperatura izhlapevanja običajno med 1000 in 2000 °C, zato je treba izbrati material, ki izvira iz izhlapevanja, z ustrezno temperaturo izhlapevanja. Na primer, aluminij ima pri atmosferskem tlaku temperaturo izhlapevanja 2400 °C, vendar se v vakuumskih pogojih temperatura izhlapevanja znatno zniža. To je zato, ker v vakuumski oviri ni atmosferskih molekul, zato se atomi ali molekule aluminija lažje izhlapevajo s površine. Ta pojav je pomembna prednost vakuumskega izhlapevanja. V vakuumski atmosferi je izhlapevanje filmskega materiala lažje, tako da se lahko tanke plasti tvorijo pri nižjih temperaturah. Ta nižja temperatura zmanjša oksidacijo in razgradnjo materiala, kar prispeva k pripravi filmov višje kakovosti.
Med vakuumskim nanašanjem se tlak, pri katerem se hlapi filmskega materiala uravnotežijo v trdni snovi ali tekočini, imenuje nasičeni parni tlak pri tej temperaturi. Ta tlak odraža dinamično ravnovesje izhlapevanja in kondenzacije pri dani temperaturi. Običajno je temperatura v drugih delih vakuumske komore precej nižja od temperature vira izhlapevanja, kar olajša kondenzacijo uparjajočih membranskih atomov ali molekul v drugih delih komore. V tem primeru, če je hitrost izhlapevanja večja od hitrosti kondenzacije, bo v dinamičnem ravnovesju parni tlak dosegel nasičeni parni tlak. To pomeni, da je v tem primeru število atomov ali molekul, ki izhlapevajo, enako številu atomov ali molekul, ki kondenzirajo, in doseže se dinamično ravnovesje.
–Ta članek je objavilproizvajalec strojev za vakuumsko lakiranjeGuangdong Zhenhua
Čas objave: 27. september 2024