۱. د ویکیوم کوټینګ اصولو عمومي کتنه
د ویکیوم کوټینګ ټیکنالوژيد سطحې د جمع کولو ټیکنالوژي ده چې د فزیکي بخاراتو زیرمه (PVD) یا کیمیاوي بخاراتو زیرمه (CVD) پر بنسټ ولاړه ده. د لوړ خلا شرایطو لاندې، جامد یا ګازي پوښ مواد د تودوخې، پلازما بمبارۍ، یا کیمیاوي تعاملاتو له لارې په آزادو ذراتو بدلیږي، او وروسته د سبسټریټ سطحې ته زیرمه کیږي ترڅو یو پتلی فلم جوړ کړي.
عادي پروسې عبارت دي له:
د تبخیر پوښښ (د مثال په توګه، د تودوخې مقاومت تبخیر، د الکترون بیم تبخیر)، مقناطیسي سپټرینګ، د ایون پلیټینګ، د کیمیاوي بخار زیرمه (CVD)
که څه هم د پروسې انتخاب د غوښتنلیک پورې اړه لري توپیر لري، وروستۍ موخه ثابته پاتې کیږي: د لوړ چپکولو، یووالي، او د فلم ثبات ترلاسه کول.
2. د عام ویکیوم کوټینګ موادو کټګورۍ
د فلم فعالیت او پروسې اړتیاو سره سم، د ویکیوم کوټینګ مواد په عمده توګه په لاندې کټګوریو ویشل شوي دي:
(۱) فلزي مواد
المونیم (Al): په پراخه کچه د سینګار پوښونو او انعکاسي طبقو لپاره کارول کیږي، لکه د موټرو انعکاسي کڅوړو او سینګاري تختو کې.
ټایټانیوم (Ti): په سختو پوښونو کې یا د نیلي او سرو زرو سینګار فلمونو تولید لپاره کارول کیږي.
کرومیم (Cr): د دودیز الیکټروپلیټینګ لپاره یو مهم PVD بدیل، چې د لوړ روښانتیا او د زنګ وهلو مقاومت لپاره پیژندل کیږي.
د زنګ نه وهونکي فولاد (SUS304، SUS316، او نور): د فلزي ډوله پوښونو لپاره کارول کیږي چې د اغوستلو مقاومت یې زیات شوی وي.
مس (Cu)، سپین زر (Ag)، سره زر (Au): معمولا په بریښنایی، سینګاري، او چلونکي فعال پوښونو کې کارول کیږي.
(۲) سیرامیک او اکسایډ مواد
سیلیکون ډای اکسایډ (SiO₂): د انعکاس ضد (AR) پوښونو، د نظري لوړولو طبقو، او موصلي فلمونو کې کارول کیږي.
ټایټانیوم ډای اکسایډ (TiO₂): یو لوړ انعکاسي شاخص لرونکی مواد چې ډیری وختونه د نظري مداخلې پوښونو کې کارول کیږي.
زیرکونیم ډای اکسایډ (ZrO₂): غوره حرارتي ثبات او لوړ پوښاک مقاومت وړاندې کوي.
المونیم اکسایډ (Al₂O₃): د لوړ سختۍ لپاره پیژندل شوی، ډیری وختونه د محافظتي سخت پوښ په توګه کارول کیږي.
(۳) نایټرایډونه او کاربایډونه
ټایټانیوم نایټرایډ (TiN): یو ځانګړی طلایی زینتي پوښ مواد چې غوره سختۍ او د زنګ وهلو مقاومت لري.
کرومیم نایټرایډ (CrN)، زیرکونیم نایټرایډ (ZrN): په پراخه کچه د وسایلو په پوښونو او د اغوستلو په وړاندې مقاومت لرونکو غوښتنلیکونو کې کارول کیږي.
سیلیکون کاربایډ (SiC)، ټایټانیوم کاربایډ (TiC): د لوړ سختۍ او لوړ تودوخې مقاومت لرونکي غوښتنلیکونو لپاره مناسب.
۳. د موادو د انتخاب معیارونه او د پروسې مطابقت
د پوښښ اغیزمنتوب د زیرمه کولو تخنیک او غوره شوي موادو دواړو پورې اړه لري. مهم عوامل چې باید په پام کې ونیول شي عبارت دي له:
د سبسټریټ مطابقت: مختلف سبسټریټونه لکه پلاستیک، فلز او شیشه د فلم د چپکولو ځانګړي ملکیتونو ته اړتیا لري.
کاري اړتیاوې: د اړتیاوو لکه د اکسیډیشن مقاومت، چالکتیا، یا نظري فلټر کولو پراساس د کوټینګ مواد غوره کړئ.
د پروسې مناسبیت: د مثال په توګه، د میګنیټرون سپټرینګ د فلزاتو او اکسایډونو سره ډیر مطابقت لري، پداسې حال کې چې تبخیر د ټیټ ویلې کیدو نقطې موادو لپاره مناسب دی.
د مثال په توګه:
د موټرو داخلي برخو لپاره د PVD پر بنسټ د سینګار پوښښونو کې، Cr، Ti، او TiN په پراخه کچه د الیکټروپلیټینګ لپاره د چاپیریال دوستانه بدیلونو په توګه کارول کیږي.
په انعکاس ضد (AR) آپټیکل کوټینګونو کې، SiO₂ او TiO₂ د موادو بنسټیز ترکیب جوړوي.
د موادو انتخاب د فلم کیفیت ټاکي
د ویکیوم زیرمه شوي فلم فعالیت نه یوازې د تجهیزاتو او پروسې کنټرول لخوا اغیزمن کیږي بلکه د موادو انتخاب لخوا هم په جدي ډول اغیزمن کیږي. د سم پوښښ موادو غوره کول او د مناسب زیرمه کولو تخنیک سره یې یوځای کول د غوره فلم فعالیت ترلاسه کولو لپاره کلیدي ده.
— دا مقاله د لخوا خپره شوې ده د ویکیوم کوټینګ تجهیزات جوړونکی ژنهوا ویکیوم
د پوسټ وخت: جون-۲۷-۲۰۲۵