ରାସାୟନିକ ବାଷ୍ପ ଜମା

ଏପିଟାକ୍ସିଆଲ୍ ବୃଦ୍ଧି, ଯାହାକୁ ପ୍ରାୟତଃ ଏପିଟାକ୍ସୀ ମଧ୍ୟ କୁହାଯାଏ, ସେମିକଣ୍ଡକ୍ଟର ସାମଗ୍ରୀ ଏବଂ ଉପକରଣ ନିର୍ମାଣରେ ସବୁଠାରୁ ଗୁରୁତ୍ୱପୂର୍ଣ୍ଣ ପ୍ରକ୍ରିୟା ମଧ୍ୟରୁ ଗୋଟିଏ। ଏକକ ଉତ୍ପାଦ ଫିଲ୍ମ ପ୍ରକ୍ରିୟାର ଏକ ସ୍ତରର ବୃଦ୍ଧି ଉପରେ ଏକକ ସ୍ଫଟିକ ସବଷ୍ଟ୍ରେଟରେ ତଥାକଥିତ ଏପିଟାକ୍ସିଆଲ୍ ବୃଦ୍ଧି କିଛି ନିର୍ଦ୍ଦିଷ୍ଟ ପରିସ୍ଥିତିରେ ହୋଇଥାଏ, ଏକକ-ସ୍ଫଟିକ ଫିଲ୍ମର ବୃଦ୍ଧିକୁ ଏପିଟାକ୍ସିଆଲ୍ ସ୍ତର କୁହାଯାଏ ଏପିଟାକ୍ସିଆଲ୍ ପ୍ରଯୁକ୍ତିବିଦ୍ୟା ହେଉଛି 1960 ଦଶକର ପ୍ରାରମ୍ଭରେ ସିଲିକନ୍ ଏକକ-ସ୍ଫଟିକ ପତଳା ଫିଲ୍ମ ଗବେଷଣାରେ ପ୍ରାୟ ଅର୍ଦ୍ଧ ଶତାବ୍ଦୀର ବିକାଶର ଉଦୟ ଆଧାରରେ, ଲୋକମାନେ ଏପିଟାକ୍ସିଆଲ୍ ବୃଦ୍ଧିର କିଛି ନିର୍ଦ୍ଦିଷ୍ଟ ପରିସ୍ଥିତିରେ ବିଭିନ୍ନ ଅର୍ଦ୍ଧ ସେମିକଣ୍ଡକ୍ଟର ଫିଲ୍ମଗୁଡ଼ିକୁ ଅନୁଭବ କରିପାରିଛନ୍ତି। ଏପିଟାକ୍ସିଆଲ୍ ପ୍ରଯୁକ୍ତିବିଦ୍ୟା ଅର୍ଦ୍ଧ ସେମିକଣ୍ଡକ୍ଟର ଡିସ୍କ୍ରିଟ ଉପାଦାନ ଏବଂ ସମନ୍ୱିତ ସର୍କିଟରେ ଅନେକ ସମସ୍ୟାର ସମାଧାନ କରିଛି, ଡିଭାଇସର କାର୍ଯ୍ୟଦକ୍ଷତାକୁ ବହୁଳ ଭାବରେ ଉନ୍ନତ କରିଛି। ଏପିଟାକ୍ସିଆଲ୍ ଫିଲ୍ମ ଏହାର ଘନତା ଏବଂ ଡୋପିଂ ଗୁଣଗୁଡ଼ିକୁ ଅଧିକ ସଠିକ୍ ଭାବରେ ନିୟନ୍ତ୍ରଣ କରିପାରିବ, ଏହି ବୈଶିଷ୍ଟ୍ୟ ଅର୍ଦ୍ଧ ସେମିକଣ୍ଡକ୍ଟର ଇଣ୍ଟିଗ୍ରେଟେଡ୍ ସର୍କିଟର ଦ୍ରୁତ ବିକାଶକୁ ଏକ ଅଧିକ ଉତ୍ତମ ପର୍ଯ୍ୟାୟରେ ନେଇଯାଇଛି। ସିଲିକନ୍ ଏକକ ସ୍ଫଟିକକୁ ସ୍ଲାଇସିଂ, ଗ୍ରାଇଣ୍ଡିଂ, ପଲିସ୍ ଏବଂ ଅନ୍ୟାନ୍ୟ ପ୍ରକ୍ରିୟାକରଣ କୌଶଳ ଦ୍ୱାରା, ପଲିସ୍ ସିଟ୍ ପାଇବା ପାଇଁ, ଆପଣ ଏଥିରେ ଡିସ୍କ୍ରିଟ ଉପାଦାନ ଏବଂ ସମନ୍ୱିତ ସର୍କିଟ୍ ତିଆରି କରିପାରିବେ। କିନ୍ତୁ ଅନେକ ସମୟରେ ଏହି ପଲିସ୍ ହୋଇଥିବା ଚାଦର କେବଳ ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍ ପାଇଁ ଏକ ଯାନ୍ତ୍ରିକ ସମର୍ଥନ ଭାବରେ ବ୍ୟବହାର କରାଯାଏ, ଯେଉଁଥିରେ ପ୍ରଥମେ ଉପଯୁକ୍ତ ପ୍ରକାରର ପରିବାହୀତା ଏବଂ ପ୍ରତିରୋଧକତା ସହିତ ଏକକ-କ୍ରିଷ୍ଟାଲ୍ ଫିଲ୍ମର ଏକ ସ୍ତର ବୃଦ୍ଧି କରିବା ଆବଶ୍ୟକ, ଏବଂ ତାପରେ ଏକକ-କ୍ରିଷ୍ଟାଲ୍ ଫିଲ୍ମରେ ଉତ୍ପାଦିତ ବିଚ୍ଛିନ୍ନ ଉପାଦାନ କିମ୍ବା ସମନ୍ୱିତ ସର୍କିଟ୍। ଏହି ପଦ୍ଧତି ବ୍ୟବହାର କରାଯାଏ, ଉଦାହରଣ ସ୍ୱରୂପ, ସିଲିକନ୍ ଉଚ୍ଚ-ଆବୃତ୍ତି ଉଚ୍ଚ-ଶକ୍ତି ଟ୍ରାଞ୍ଜିଷ୍ଟର ଉତ୍ପାଦନରେ, ବ୍ରେକଡାଉନ୍ ଭୋଲଟେଜ୍ ଏବଂ ସିରିଜ୍ ପ୍ରତିରୋଧ ମଧ୍ୟରେ ଦ୍ୱନ୍ଦ୍ୱର ସମାଧାନ। ଟ୍ରାଞ୍ଜିଷ୍ଟରର ସଂଗ୍ରାହକଙ୍କୁ ଏକ ଉଚ୍ଚ ବ୍ରେକଡାଉନ୍ ଭୋଲଟେଜ୍ ଆବଶ୍ୟକ, ଯାହା ସିଲିକନ୍ ୱେଫରର pn ଜଙ୍କସନର ପ୍ରତିରୋଧକତା ଦ୍ୱାରା ନିର୍ଣ୍ଣୟ କରାଯାଏ। ଏହି ଆବଶ୍ୟକତା ପୂରଣ କରିବା ପାଇଁ, ଉଚ୍ଚ ପ୍ରତିରୋଧକ ସାମଗ୍ରୀ ଆବଶ୍ୟକ। ଏପିଟାକ୍ସିଆଲ୍ ଉପରେ ବହୁଳ ଡୋପ୍ ହୋଇଥିବା n-ପ୍ରକାର କମ୍-ପ୍ରତିରୋଧକ ସାମଗ୍ରୀରେ ଲୋକମାନେ ଅନେକରୁ ଏକ ଡଜନ ମାଇକ୍ରୋନ୍ ଘନ ହାଲୁକା ଡୋପ୍ ହୋଇଥିବା ଉଚ୍ଚ-ପ୍ରତିରୋଧକ n-ପ୍ରକାର ସ୍ତର, ଏପିଟାକ୍ସିଆଲ୍ ସ୍ତରରେ ଟ୍ରାଞ୍ଜିଷ୍ଟର ଉତ୍ପାଦନ, ଯାହା ଉଚ୍ଚ ପ୍ରତିରୋଧକତା ଏବଂ ନିମ୍ନ ସଂଗ୍ରାହକ ସିରିଜ୍ ପ୍ରତିରୋଧ ଦ୍ୱାରା ଆବଶ୍ୟକ ଉଚ୍ଚ ବ୍ରେକଡାଉନ୍ ଭୋଲଟେଜ୍ ସମାଧାନ କରେ।

ଗ୍ୟାସ-ଫେଜ୍ ଏପିଟାକ୍ସିଆଲ୍ ବୃଦ୍ଧି ହେଉଛି ଏକ ଅଧିକ ପରିପକ୍ୱ ଏପିଟାକ୍ସିଆଲ୍ ବୃଦ୍ଧି ପ୍ରଯୁକ୍ତିର ଅର୍ଦ୍ଧଚାଳକ କ୍ଷେତ୍ରରେ ପ୍ରାରମ୍ଭିକ ପ୍ରୟୋଗ, ଯାହା ଅର୍ଦ୍ଧଚାଳକ ବିଜ୍ଞାନର ବିକାଶରେ ଏକ ଗୁରୁତ୍ୱପୂର୍ଣ୍ଣ ଭୂମିକା ଗ୍ରହଣ କରେ, ଅର୍ଦ୍ଧଚାଳକ ସାମଗ୍ରୀ ଏବଂ ଉପକରଣଗୁଡ଼ିକର ଗୁଣବତ୍ତା ଏବଂ ସେମାନଙ୍କର କାର୍ଯ୍ୟଦକ୍ଷତା ଉନ୍ନତିରେ ବହୁଳ ଭାବରେ ଯୋଗଦାନ କରେ। ବର୍ତ୍ତମାନ, ଅର୍ଦ୍ଧଚାଳକ ଏକକ ସ୍ଫଟିକ ଏପିଟାକ୍ସିଆଲ୍ ଫିଲ୍ମ ପ୍ରସ୍ତୁତ କରିବା ହେଉଛି ରାସାୟନିକ ବାଷ୍ପ ଜମା ​​କରିବାର ସବୁଠାରୁ ଗୁରୁତ୍ୱପୂର୍ଣ୍ଣ ପଦ୍ଧତି। ତଥାକଥିତ ରାସାୟନିକ ବାଷ୍ପ ଜମା, ଅର୍ଥାତ୍, ରାସାୟନିକ ପ୍ରତିକ୍ରିୟାର କଠିନ ପୃଷ୍ଠରେ ଗ୍ୟାସୀୟ ପଦାର୍ଥର ବ୍ୟବହାର, କଠିନ ଜମା ସୃଷ୍ଟି କରିବାର ପ୍ରକ୍ରିୟା। CVD ପ୍ରଯୁକ୍ତି ଉଚ୍ଚ-ଗୁଣବତ୍ତା ଏକକ-ସ୍ଫଟିକ ଫିଲ୍ମ ବୃଦ୍ଧି କରିପାରିବ, ଆବଶ୍ୟକ ଡୋପିଂ ପ୍ରକାର ଏବଂ ଏପିଟାକ୍ସିଆଲ୍ ଘନତା ପ୍ରାପ୍ତ କରିବା ପାଇଁ, ବହୁଳ ଉତ୍ପାଦନ ହାସଲ କରିବା ସହଜ, ଏବଂ ତେଣୁ ଶିଳ୍ପରେ ବ୍ୟାପକ ଭାବରେ ବ୍ୟବହୃତ ହୋଇଛି। ଶିଳ୍ପରେ, CVD ଦ୍ୱାରା ପ୍ରସ୍ତୁତ ଏପିଟାକ୍ସିଆଲ୍ ୱାଫରରେ ପ୍ରାୟତଃ ଗୋଟିଏ କିମ୍ବା ଅଧିକ ପୋତାଯାଇଥିବା ସ୍ତର ଥାଏ, ଯାହା ପ୍ରସାରଣ କିମ୍ବା ଆୟନ୍ ଇମ୍ପ୍ଲାଣ୍ଟେସନ୍ ଦ୍ୱାରା ଡିଭାଇସ୍ ଗଠନ ଏବଂ ଡୋପିଂ ବଣ୍ଟନକୁ ନିୟନ୍ତ୍ରଣ କରିବା ପାଇଁ ବ୍ୟବହାର କରାଯାଇପାରିବ; CVD ଏପିଟାକ୍ସିଆଲ୍ ସ୍ତରର ଭୌତିକ ଗୁଣ ବଲ୍କ ସାମଗ୍ରୀଠାରୁ ଭିନ୍ନ, ଏବଂ ଏପିଟାକ୍ସିଆଲ୍ ସ୍ତରର ଅମ୍ଳଜାନ ଏବଂ କାର୍ବନ ପରିମାଣ ସାଧାରଣତଃ ବହୁତ କମ୍, ଯାହା ଏହାର ସୁବିଧା। ତଥାପି, CVD ଏପିଟାକ୍ସିଆଲ୍ ସ୍ତର ସ୍ୱୟଂ-ଡୋପିଂ ଗଠନ କରିବା ସହଜ, ବ୍ୟବହାରିକ ପ୍ରୟୋଗରେ ସ୍ୱୟଂ-ଡୋପିଂର ଏପିଟାକ୍ସିଆଲ୍ ସ୍ତରକୁ ହ୍ରାସ କରିବା ପାଇଁ କିଛି ପଦକ୍ଷେପ ନେବା ଆବଶ୍ୟକ, CVD ପ୍ରଯୁକ୍ତିବିଦ୍ୟା ଏବେ ବି ଅଭିଜ୍ଞ ପ୍ରକ୍ରିୟା ସ୍ଥିତିର କିଛି ଦିଗରେ ଅଛି, ଅଧିକ ଗଭୀର ଗବେଷଣା କରିବାକୁ ପଡିବ, ଯାହା ଦ୍ଵାରା ଏହା CVD ପ୍ରଯୁକ୍ତିର ବିକାଶ ପାଇବା ଜାରି ରଖିବ।

CVD ବୃଦ୍ଧି ଯନ୍ତ୍ରପାତି ବହୁତ ଜଟିଳ, ରାସାୟନିକ ପ୍ରତିକ୍ରିୟାରେ ସାଧାରଣତଃ ବିଭିନ୍ନ ଉପାଦାନ ଏବଂ ପଦାର୍ଥ ଅନ୍ତର୍ଭୁକ୍ତ, ଅନେକ ମଧ୍ୟବର୍ତ୍ତୀ ଉତ୍ପାଦ ଉତ୍ପାଦନ କରିପାରିବ, ଏବଂ ତାପମାତ୍ରା, ଚାପ, ଗ୍ୟାସ ପ୍ରବାହ ହାର, ଇତ୍ୟାଦି ଅନେକ ସ୍ୱାଧୀନ ଚଳକ ଅଛି, ଏପିଟାକ୍ସିଆଲ୍ ପ୍ରକ୍ରିୟାର ବିକାଶ ଏବଂ ଉନ୍ନତି ପାଇଁ ପରସ୍ପର ମଧ୍ୟରେ ଅନେକ ପଛକୁ ପଛକୁ ଅନେକ ପଦକ୍ଷେପ ଅଛି। ଏପିଟାକ୍ସିଆଲ୍ ପ୍ରକ୍ରିୟାରେ ଅନେକ କ୍ରମାଗତ, ପାରସ୍ପରିକ ବିସ୍ତାର ଏବଂ ସିଦ୍ଧ ପଦକ୍ଷେପ ଅଛି। CVD ଏପିଟାକ୍ସିଆଲ୍ ବୃଦ୍ଧିର ପ୍ରକ୍ରିୟା ଏବଂ ଯନ୍ତ୍ରପାତି ବିଶ୍ଳେଷଣ କରିବା ପାଇଁ, ପ୍ରଥମେ, ଗ୍ୟାସ ପର୍ଯ୍ୟାୟରେ ପ୍ରତିକ୍ରିୟାଶୀଳ ପଦାର୍ଥର ଦ୍ରବଣୀୟତା, ବିଭିନ୍ନ ଗ୍ୟାସର ସନ୍ତୁଳନ ଆଂଶିକ ଚାପ, ସ୍ପଷ୍ଟ ଗତିଜ ଏବଂ ଥର୍ମୋଡାଇନାମିକ୍ ପ୍ରକ୍ରିୟା ସ୍ପଷ୍ଟ କରିବା ପାଇଁ; ତା'ପରେ ଗ୍ୟାସ ପର୍ଯ୍ୟାୟରୁ ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍ ଗଣ ପରିବହନର ପୃଷ୍ଠକୁ ପ୍ରତିକ୍ରିୟାଶୀଳ ଗ୍ୟାସଗୁଡ଼ିକୁ ବୁଝିବା ପାଇଁ, ଗ୍ୟାସ ପ୍ରବାହର ସୀମା ସ୍ତର ଏବଂ ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍ ପୃଷ୍ଠର ଗଠନ, ନ୍ୟୁକ୍ଲିୟସ୍ର ବୃଦ୍ଧି, ଏବଂ ପୃଷ୍ଠ ପ୍ରତିକ୍ରିୟା, ପ୍ରସାରଣ ଏବଂ ସ୍ଥାନାନ୍ତରଣ, ଏବଂ ଏହିପରି ଶେଷରେ ଇଚ୍ଛିତ ଫିଲ୍ମ ସୃଷ୍ଟି କରିବା ପାଇଁ। CVD ର ବୃଦ୍ଧି ପ୍ରକ୍ରିୟାରେ, ରିଆକ୍ଟରର ବିକାଶ ଏବଂ ପ୍ରଗତି ଏକ ଗୁରୁତ୍ୱପୂର୍ଣ୍ଣ ଭୂମିକା ଗ୍ରହଣ କରେ, ଯାହା ମୁଖ୍ୟତଃ ଏପିଟାକ୍ସିଆଲ୍ ସ୍ତରର ଗୁଣବତ୍ତା ନିର୍ଣ୍ଣୟ କରେ। ଏପିଟାକ୍ସିଆଲ୍ ସ୍ତରର ପୃଷ୍ଠ ଆକୃତି, ଜାଲି ତ୍ରୁଟି, ଅଶୁଦ୍ଧତାର ବଣ୍ଟନ ଏବଂ ନିୟନ୍ତ୍ରଣ, ଏପିଟାକ୍ସିଆଲ୍ ସ୍ତରର ଘନତା ଏବଂ ସମାନତା ସିଧାସଳଖ ଡିଭାଇସ୍ କାର୍ଯ୍ୟଦକ୍ଷତା ଏବଂ ଉତ୍ପାଦନକୁ ପ୍ରଭାବିତ କରେ।

–ଏହି ଲେଖାଟି ପ୍ରକାଶିତ ହୋଇଛିଭାକ୍ୟୁମ୍ କୋଟିଂ ମେସିନ୍ ନିର୍ମାତାଗୁଆଙ୍ଗଡଙ୍ଗ ଜେନହୁଆ |