Stratum membranae in fonte evaporationis calefactionis evaporationis particulas membranae in forma atomorum (vel moleculorum) in spatium phasis gaseosae immittere potest. Sub alta temperatura fontis evaporationis, atomi vel moleculae in superficie membranae satis energiae accipiunt ut tensionem superficialem superent et a superficie evaporent. Hi atomi vel moleculae evaporatae in statu gaseoso in vacuo, id est in spatio phasis gaseosae, existunt. Materiae metallicae vel non metallicae sunt.
In ambitu vacuo, processus calefactionis et evaporationis materiarum membranarum emendari possunt. Ambitus vacuus effectum pressionis atmosphaericae in processum evaporationis minuit, quo facilius processus evaporationis perficitur. Sub pressione atmosphaerica, materia maiori pressioni subiicienda est ut resistentiam gasis superet, cum in vacuo haec resistentia magnopere minuatur, quo facilius materia evaporatur. In processu evaporationis obductionis, temperatura evaporationis et pressio vaporis materiae fontis evaporationis factor magni momenti est in eligenda materia fontis evaporationis. Pro obductione Cd (Se, s), temperatura evaporationis eius plerumque inter 1000 et 2000 ℃ est, ergo materiam fontis evaporationis cum temperatura evaporationis idonea eligere necesse est. Exempli gratia, aluminium sub pressione atmosphaerica et temperatura evaporationis 2400 ℃, sed sub condicionibus vacui, temperatura evaporationis eius significanter decrescet. Hoc fit quia nullae moleculae atmosphaericae in obstructione vacui sunt, ita ut atomi vel moleculae aluminii facilius a superficie evaporari possint. Hoc phaenomenon commodum magnum pro obductione evaporationis vacui est. In atmosphaera vacui, evaporatio materiae pellicularis facilius perficitur, ita ut pelliculae tenues temperaturis inferioribus formari possint. Haec temperatura inferior oxidationem et decompositionem materiae minuit, ita ad praeparationem pellicularum altioris qualitatis conferens.
In vacuo obductione, pressio qua vapores materiae pelliculae in solido vel liquido aequilibrium habent, pressio vaporis saturationis ad illam temperaturam appellatur. Haec pressio aequilibrium dynamicum evaporationis et condensationis ad datam temperaturam reflectit. Typice, temperatura in aliis partibus camerae vacui multo inferior est quam temperatura fontis evaporationis, quod faciliorem reddit condensationem atomorum vel moleculorum membranae evaporantium in aliis partibus camerae. Hoc in casu, si celeritas evaporationis maior est quam celeritas condensationis, tum in aequilibrio dynamico pressio vaporis pressionem vaporis saturationis attinget. Hoc est, hoc in casu, numerus atomorum vel molecularum evaporantium aequalis est numero condensantium, et aequilibrium dynamicum attingitur.
–Hic articulus editus est abFabricator machinae ad obducendum vacuumGuangdong Zhenhua
Tempus publicationis: XXVII Septembris, MMXXIV