A fabricación de dispositivos ópticos de película fina lévase a cabo nunha cámara de baleiro, e o crecemento da capa de película é un proceso microscópico. Non obstante, na actualidade, os procesos macroscópicos que se poden controlar directamente son algúns factores macroscópicos que teñen unha relación indirecta coa calidade da capa de película. Aínda así, a través dunha investigación experimental persistente a longo prazo, atopouse a relación regular entre a calidade da película e estes macrofactores, o que se converteu nunha especificación de proceso para guiar a fabricación de dispositivos de viaxe de película e xoga un papel importante na fabricación de dispositivos ópticos de película fina de alta calidade.
1. O efecto do galvanoplastia ao baleiro
A influencia do grao de baleiro nas propiedades da película débese á perda de enerxía e á reacción química causada pola colisión en fase gasosa entre o gas residual e os átomos e moléculas da película. Se o grao de baleiro é baixo, a probabilidade de fusión entre as moléculas de vapor do material da película e as moléculas de gas restantes aumenta, e a enerxía cinética das moléculas de vapor redúcese considerablemente, facendo que as moléculas de vapor non poidan alcanzar o substrato, ou non poidan atravesar a capa de adsorción de gas no substrato, ou apenas poidan atravesar a capa de adsorción de gas, pero a enerxía de adsorción co substrato é moi pequena. Como resultado, a película depositada por dispositivos ópticos de película fina é solta, a densidade de acumulación é baixa, a resistencia mecánica é deficiente, a composición química non é pura e o índice de refracción e a dureza da capa da película son deficientes.
Xeralmente, co aumento do baleiro, a estrutura da película mellora, a composición química vólvese máis pura, pero a tensión aumenta. Canto maior sexa a pureza da película metálica e da película semicondutora, mellor, xa que dependen do grao de baleiro, que require un baleiro directo máis alto. As principais propiedades das películas afectadas polo grao de baleiro son o índice de refracción, a dispersión, a resistencia mecánica e a insolubilidade.
2. Influencia da taxa de deposición
A velocidade de deposición é un parámetro do proceso que describe a velocidade de deposición da película, expresada polo grosor da película formada na superficie do revestimento na unidade de tempo, e a unidade é nm·s-1.
A velocidade de deposición ten unha influencia obvia no índice de refracción, a firmeza, a resistencia mecánica, a adhesión e a tensión da película. Se a velocidade de deposición é baixa, a maioría das moléculas de vapor regresan do substrato, a formación de núcleos cristalinos é lenta e a condensación só se pode levar a cabo en grandes agregados, o que fai que a estrutura da película se solte. Co aumento da velocidade de deposición, formarase unha película fina e densa, a dispersión da luz diminuirá e a firmeza aumentará. Polo tanto, a forma de seleccionar correctamente a velocidade de deposición da película é unha cuestión importante no proceso de evaporación, e a selección específica debe determinarse segundo o material da película.
Hai dous métodos para mellorar a taxa de deposición: (1) método de aumento da temperatura da fonte de evaporación (2) método de aumento da área da fonte de evaporación.
Data de publicación: 29 de marzo de 2024