لایه فیلم در منبع تبخیر گرمایشی تبخیر میتواند ذرات غشاء را به شکل اتم (یا مولکول) وارد فضای فاز گازی کند. تحت دمای بالای منبع تبخیر، اتمها یا مولکولهای روی سطح غشاء انرژی کافی برای غلبه بر کشش سطحی و تبخیر از سطح را دریافت میکنند. این اتمها یا مولکولهای تبخیر شده در حالت گازی در خلاء، یعنی فضای فاز گازی، وجود دارند. مواد فلزی یا غیرفلزی.
در محیط خلاء، فرآیندهای گرمایش و تبخیر مواد غشایی را میتوان بهبود بخشید. محیط خلاء، تأثیر فشار اتمسفر بر فرآیند تبخیر را کاهش میدهد و انجام فرآیند تبخیر را آسانتر میکند. در فشار اتمسفر، ماده باید تحت فشار بیشتری قرار گیرد تا بر مقاومت گاز غلبه کند، در حالی که در خلاء، این مقاومت به میزان زیادی کاهش مییابد و تبخیر ماده را آسانتر میکند. در فرآیند پوشش تبخیری، دمای تبخیر و فشار بخار ماده منبع تبخیر، عامل مهمی در انتخاب ماده منبع تبخیر است. برای پوشش Cd (Se, s)، دمای تبخیر آن معمولاً در حدود 1000 تا 2000 درجه سانتیگراد است، بنابراین باید ماده منبع تبخیری با دمای تبخیر مناسب انتخاب شود. مانند آلومینیوم در دمای تبخیر فشار اتمسفری 2400 درجه سانتیگراد، اما در شرایط خلاء، دمای تبخیر آن به طور قابل توجهی کاهش مییابد. این به این دلیل است که هیچ مولکول جوی در انسداد خلاء وجود ندارد، به طوری که اتمها یا مولکولهای آلومینیوم میتوانند راحتتر از سطح تبخیر شوند. این پدیده یک مزیت مهم برای پوشش تبخیری خلاء است. در فضای خلاء، تبخیر مواد فیلم آسانتر میشود، به طوری که میتوان فیلمهای نازک را در دماهای پایینتر تشکیل داد. این دمای پایینتر، اکسیداسیون و تجزیه مواد را کاهش میدهد و در نتیجه به تهیه فیلمهای با کیفیت بالاتر کمک میکند.
در طول پوششدهی تحت خلاء، فشاری که در آن بخارات ماده فیلم در یک جامد یا مایع به تعادل میرسند، فشار بخار اشباع در آن دما نامیده میشود. این فشار، تعادل دینامیکی تبخیر و میعان را در یک دمای معین نشان میدهد. معمولاً دما در سایر قسمتهای محفظه خلاء بسیار پایینتر از دمای منبع تبخیر است که باعث میشود اتمها یا مولکولهای غشای تبخیر شده در سایر قسمتهای محفظه، آسانتر متراکم شوند. در این حالت، اگر سرعت تبخیر بیشتر از سرعت میعان باشد، در تعادل دینامیکی، فشار بخار به فشار بخار اشباع میرسد. یعنی در این حالت، تعداد اتمها یا مولکولهای تبخیر شده برابر با تعداد میعان شده است و تعادل دینامیکی حاصل میشود.
–این مقاله توسط منتشر شده استتولید کننده دستگاه پوشش دهی در خلاءگوانگدونگ ژنهوا
زمان ارسال: ۲۷ سپتامبر ۲۰۲۴