La capa de película en la fuente de evaporación permite que las partículas de la membrana, en forma de átomos (o moléculas), se evaporen en el espacio gaseoso. Bajo la alta temperatura de la fuente de evaporación, los átomos o moléculas en la superficie de la membrana obtienen suficiente energía para superar la tensión superficial y evaporarse. Estos átomos o moléculas evaporados se encuentran en estado gaseoso en el vacío, es decir, en el espacio gaseoso. Se pueden usar materiales metálicos o no metálicos.
En un entorno de vacío, los procesos de calentamiento y evaporación de los materiales de membrana pueden mejorarse. El entorno de vacío reduce el efecto de la presión atmosférica en el proceso de evaporación, lo que facilita su realización. A presión atmosférica, el material necesita someterse a una mayor presión para superar la resistencia del gas, mientras que en vacío, esta resistencia se reduce considerablemente, lo que facilita su evaporación. En el proceso de recubrimiento por evaporación, la temperatura de evaporación y la presión de vapor del material fuente son factores importantes para su selección. Para el recubrimiento de Cd (Se, s), su temperatura de evaporación suele estar entre 1000 y 2000 °C, por lo que es necesario elegir un material fuente con una temperatura de evaporación adecuada. Por ejemplo, el aluminio a presión atmosférica tiene una temperatura de evaporación de 2400 °C, pero en condiciones de vacío, su temperatura de evaporación disminuirá significativamente. Esto se debe a que no hay moléculas atmosféricas en la obstrucción del vacío, por lo que los átomos o moléculas de aluminio pueden evaporarse más fácilmente de la superficie. Este fenómeno constituye una ventaja importante para el recubrimiento por evaporación al vacío. En una atmósfera de vacío, la evaporación del material de la película se facilita, lo que permite la formación de películas delgadas a temperaturas más bajas. Esta temperatura más baja reduce la oxidación y la descomposición del material, lo que contribuye a la preparación de películas de mayor calidad.
Durante el recubrimiento al vacío, la presión a la que los vapores del material de la película se equilibran en un sólido o líquido se denomina presión de vapor de saturación a esa temperatura. Esta presión refleja el equilibrio dinámico de la evaporación y la condensación a una temperatura dada. Normalmente, la temperatura en otras partes de la cámara de vacío es mucho menor que la temperatura de la fuente de evaporación, lo que facilita la condensación de los átomos o moléculas de la membrana en evaporación en otras partes de la cámara. En este caso, si la velocidad de evaporación es mayor que la de condensación, en equilibrio dinámico la presión de vapor alcanzará la presión de vapor de saturación. Es decir, en este caso, el número de átomos o moléculas que se evaporan es igual al número que se condensa, y se alcanza el equilibrio dinámico.
–Este artículo es publicado porfabricante de máquinas de recubrimiento al vacíoGuangdong Zhenhua
Hora de publicación: 27 de septiembre de 2024