CFM1916

(1) Der Werkstückträger ist zylindrisch gestaltet und bietet eine große Beschichtungsfläche. Die Produktbeladungskapazität ist doppelt so hoch wie bei Elektronenstrahlverdampfungsanlagen gleicher Spezifikation. Der Werkstückträger ist mit einer Dreh- und Rotationsstruktur ausgestattet, die sich an Werkstücke unterschiedlicher Formen anpassen lässt und eine breitere Anwendung findet.
(2) Durch die Verwendung des Mittelfrequenz-Magnetron-Zylindertarget-Sputtersystems und des Ionenquellen-Hilfssystems ist der Beschichtungsfilm kompakt, weist einen hohen und stabilen Brechungsindex auf, haftet stark und absorbiert kaum Wasserdampfmoleküle. In verschiedenen Umgebungen weist der Film eine stabilere optische Leistung auf als der mit herkömmlichen Elektronenstrahlverdampfungsanlagen abgeschiedene Film.
(3) Ausgestattet mit einem Kristallkontrollsystem zur präzisen Kontrolle der Filmdicke weist der Prozess eine hohe Stabilität und gute Wiederholbarkeit auf. Das geschlossene und automatische Steuerungssystem SPEEDFLO kann die Abscheidungsrate von SiO2 effektiv verbessern.
(4) Das Design der thermostatischen Vorrichtung ermöglicht eine effektive Regelung der Produkttemperatur und ist an ultradünne PET- und PC-Produkte anpassbar.