CFM1916

(1) Raftul pentru piese de prelucrat adoptă un design cilindric, cu suprafață mare de acoperire.Capacitatea de încărcare a produsului este de două ori mai mare decât a echipamentului de evaporare cu fascicul de electroni cu aceeași specificație.Raftul pentru piese de prelucrat este proiectat cu structură de revoluție și rotație, care se poate adapta la piesele de prelucrat de diferite forme și este utilizat pe scară largă.
(2) Folosind sistemul de pulverizare a țintei cilindrice cu magnetron de frecvență medie și sistemul auxiliar sursă de ioni, filmul de acoperire este compact, cu indice de refracție ridicat și stabil, aderență puternică și nu este ușor de adsorbit moleculele de vapori de apă.În diferite medii, filmul menține o performanță optică mai stabilă decât filmul depus de echipamentul tradițional de evaporare cu fascicul de electroni.
(3) Echipat cu un sistem de monitorizare a controlului cristalului pentru a controla cu precizie grosimea filmului, procesul are stabilitate ridicată și repetabilitate bună.Sistemul de control automat și în buclă închisă SPEEDFLO poate îmbunătăți eficient rata de depunere a SiO2.
(4) Designul dispozitivului termostatic poate controla eficient temperatura produsului și se poate adapta la produse PET și PC ultra-subțiri.