CFM1916

(1) Arbejdsstykkestativet vedtager cylindrisk design med stort belægningsområde.Produktbelastningskapaciteten er det dobbelte af elektronstrålefordampningsudstyret med samme specifikation.Emnestativet er designet med omdrejnings- og rotationsstruktur, som kan tilpasses til emner af forskellige former og er mere udbredt.
(2) Ved at bruge det mellemfrekvente magnetroncylindriske målsputteringssystem og ionkildens hjælpesystem er belægningsfilmen kompakt, med højt og stabilt brydningsindeks, stærk vedhæftning og er ikke let at adsorbere vanddampmolekyler.I forskellige miljøer opretholder filmen mere stabil optisk ydeevne end filmen aflejret af det traditionelle elektronstrålefordampningsudstyr.
(3) Udstyret med et krystalkontrolovervågningssystem til nøjagtigt at kontrollere filmtykkelsen, har processen høj stabilitet og god repeterbarhed.SPEEDFLO lukket kredsløb og automatisk kontrolsystem kan effektivt forbedre aflejringshastigheden af ​​SiO2.
(4) Det termostatiske armaturdesign kan effektivt styre produkttemperaturen og kan tilpasse sig ultratynde PET- og PC-produkter.