CFM1916

(1) Ang rack ng workpiece ay may disenyong silindro, na may malaking lugar ng patong. Ang kapasidad ng pagkarga ng produkto ay doble kaysa sa kagamitan sa pagsingaw ng electron beam na may parehong detalye. Ang rack ng workpiece ay dinisenyo na may istrukturang rebolusyon at pag-ikot, na maaaring umangkop sa mga workpiece na may iba't ibang hugis at mas malawak na ginagamit.
(2) Gamit ang medium frequency magnetron cylindrical target sputtering system at ang ion source auxiliary system, ang coating film ay siksik, may mataas at matatag na refractive index, malakas na adhesion, at hindi madaling ma-adsorb ang mga molekula ng singaw ng tubig. Sa iba't ibang kapaligiran, ang film ay nagpapanatili ng mas matatag na optical performance kaysa sa film na idineposito ng tradisyonal na electron beam evaporation equipment.
(3) Dahil sa gamit na crystal control monitoring system upang tumpak na makontrol ang kapal ng pelikula, ang proseso ay may mataas na estabilidad at mahusay na kakayahang maulit. Ang SPEEDFLO closed-loop at automatic control system ay maaaring epektibong mapabuti ang deposition rate ng SiO2.
(4) Ang disenyo ng thermostatic fixture ay epektibong nakakakontrol sa temperatura ng produkto, at maaaring umangkop sa mga ultra-thin na produktong PET at PC.