CFM1916

(1) Стеллаж для заготовок имеет цилиндрическую конструкцию с большой площадью покрытия. Грузоподъемность вдвое превышает грузоподъемность оборудования для электронно-лучевого испарения той же спецификации. Стеллаж для заготовок имеет вращающуюся конструкцию, которая позволяет адаптироваться к заготовкам различной формы и имеет более широкое применение.
(2) Использование среднечастотной магнетронной системы распыления с цилиндрической мишенью и вспомогательной системы ионного источника позволяет получить компактное покрытие с высоким и стабильным показателем преломления, сильной адгезией и низкой склонностью к адсорбции молекул водяного пара. В различных условиях пленка сохраняет более стабильные оптические характеристики, чем пленка, полученная традиционным оборудованием для электронно-лучевого испарения.
(3) Оснащенный системой контроля кристаллов для точного контроля толщины пленки, процесс обладает высокой стабильностью и хорошей воспроизводимостью. Система управления с замкнутым контуром и автоматическим управлением SPEEDFLO может эффективно повысить скорость осаждения SiO2.
(4) Конструкция термостатического светильника позволяет эффективно контролировать температуру продукта и подходит для сверхтонких изделий из ПЭТ и ПК.