CFM1916

(1) Il portapezzo adotta un design cilindrico, con un'ampia area di rivestimento.La capacità di carico del prodotto è doppia rispetto a quella dell'apparecchiatura di evaporazione a fascio di elettroni della stessa specifica.Il rack dei pezzi è progettato con una struttura di rotazione e rotazione, che può adattarsi a pezzi di varie forme ed è più ampiamente utilizzato.
(2) Utilizzando il sistema di sputtering del bersaglio cilindrico del magnetron a media frequenza e il sistema ausiliario della sorgente ionica, il film di rivestimento è compatto, con indice di rifrazione elevato e stabile, forte adesione e non è facile assorbire le molecole di vapore acqueo.In vari ambienti, il film mantiene prestazioni ottiche più stabili rispetto al film depositato dalla tradizionale apparecchiatura di evaporazione a fascio di elettroni.
(3) Dotato di un sistema di monitoraggio del controllo del cristallo per controllare con precisione lo spessore del film, il processo ha un'elevata stabilità e una buona ripetibilità.Il sistema di controllo automatico e a circuito chiuso SPEEDFLO può migliorare efficacemente il tasso di deposizione di SiO2.
(4) Il design del dispositivo termostatico può controllare efficacemente la temperatura del prodotto e può adattarsi a prodotti in PET e PC ultrasottili.