CFM1916

(1)Il supporto per i pezzi adotta un design cilindrico, con un'ampia area di rivestimento. La capacità di carico del prodotto è il doppio di quella dell'apparecchiatura di evaporazione a fascio di elettroni delle stesse specifiche. Il supporto per i pezzi è progettato con una struttura di rotazione e rivoluzione, che può adattarsi a pezzi di varie forme ed è più ampiamente utilizzabile.
(2) Utilizzando il sistema di sputtering a bersaglio cilindrico magnetron a media frequenza e il sistema ausiliario della sorgente ionica, il film di rivestimento è compatto, con un indice di rifrazione elevato e stabile, forte adesione e non assorbe facilmente molecole di vapore acqueo. In vari ambienti, il film mantiene prestazioni ottiche più stabili rispetto al film depositato con le tradizionali apparecchiature di evaporazione a fascio di elettroni.
(3) Dotato di un sistema di monitoraggio a controllo di cristallo per controllare con precisione lo spessore del film, il processo presenta elevata stabilità e buona ripetibilità. Il sistema di controllo automatico a circuito chiuso SPEEDFLO può migliorare efficacemente la velocità di deposizione di SiO2.
(4)Il design del dispositivo termostatico può controllare efficacemente la temperatura del prodotto e può adattarsi a prodotti in PET e PC ultrasottili.