CFM1916

(1) Rak bahan kerja menggunakan reka bentuk silinder, dengan luas salutan yang besar. Kapasiti pemuatan produk adalah dua kali ganda daripada peralatan penyejatan pancaran elektron dengan spesifikasi yang sama. Rak bahan kerja direka bentuk dengan struktur revolusi dan putaran, yang boleh menyesuaikan diri dengan bahan kerja pelbagai bentuk dan lebih banyak digunakan.
(2) Menggunakan sistem percikan sasaran silinder magnetron frekuensi sederhana dan sistem bantu sumber ion, filem salutan adalah padat, dengan indeks biasan yang tinggi dan stabil, lekatan yang kuat, dan tidak mudah menyerap molekul wap air. Dalam pelbagai persekitaran, filem ini mengekalkan prestasi optik yang lebih stabil daripada filem yang dimendapkan oleh peralatan penyejatan pancaran elektron tradisional.
(3) Dilengkapi dengan sistem pemantauan kawalan kristal untuk mengawal ketebalan filem dengan tepat, proses ini mempunyai kestabilan yang tinggi dan kebolehulangan yang baik. Sistem kawalan gelung tertutup dan automatik SPEEDFLO boleh meningkatkan kadar pemendapan SiO2 dengan berkesan.
(4) Reka bentuk lekapan termostatik boleh mengawal suhu produk dengan berkesan, dan boleh menyesuaikan diri dengan produk PET dan PC ultra nipis.