CFM1916

(1) O suporte para peças adota um design cilíndrico, com grande área de revestimento. A capacidade de carga do produto é o dobro da do equipamento de evaporação por feixe de elétrons da mesma especificação. O suporte para peças foi projetado com estrutura de revolução e rotação, que pode se adaptar a peças de vários formatos e é mais amplamente utilizado.
(2)Utilizando o sistema de pulverização catódica com alvo cilíndrico de magnetron de média frequência e o sistema auxiliar de fonte de íons, o filme de revestimento é compacto, com índice de refração alto e estável, forte adesão e não é fácil de adsorver moléculas de vapor de água. Em diversos ambientes, o filme mantém um desempenho óptico mais estável do que o filme depositado pelo equipamento tradicional de evaporação por feixe de elétrons.
(3) Equipado com um sistema de monitoramento de controle de cristal para controlar com precisão a espessura do filme, o processo apresenta alta estabilidade e boa repetibilidade. O sistema de controle automático e de circuito fechado SPEEDFLO pode melhorar efetivamente a taxa de deposição de SiO2.
(4)O design do dispositivo termostático pode controlar eficazmente a temperatura do produto e pode adaptar-se a produtos ultrafinos de PET e PC.