CFM1916

(1) Het werkstukrek heeft een cilindrisch ontwerp, met een groot coatingoppervlak.De laadcapaciteit van het product is tweemaal die van de elektronenstraalverdampingsapparatuur met dezelfde specificatie.Het werkstukrek is ontworpen met een revolutie- en rotatiestructuur, die zich kan aanpassen aan werkstukken van verschillende vormen en op grotere schaal wordt gebruikt.
(2) Met behulp van het middenfrequente magnetron cilindrische doelsputtersysteem en het ionenbronhulpsysteem is de coatingfilm compact, met een hoge en stabiele brekingsindex, sterke hechting en is het niet gemakkelijk om waterdampmoleculen te adsorberen.In verschillende omgevingen behoudt de film stabielere optische prestaties dan de film die wordt afgezet door de traditionele elektronenstraalverdampingsapparatuur.
(3) Uitgerust met een kristalcontrolebewakingssysteem om de filmdikte nauwkeurig te regelen, heeft het proces een hoge stabiliteit en goede herhaalbaarheid.SPEEDFLO closed-loop en automatisch regelsysteem kunnen de afzettingssnelheid van SiO2 effectief verbeteren.
(4) Het ontwerp van de thermostatische armatuur kan de producttemperatuur effectief regelen en kan worden aangepast aan ultradunne PET- en pc-producten.