CFM1916

(1) Το ράφι τεμαχίων εργασίας υιοθετεί κυλινδρικό σχέδιο, με μεγάλη επιφάνεια επίστρωσης.Η ικανότητα φόρτωσης του προϊόντος είναι διπλάσια από αυτή του εξοπλισμού εξάτμισης δέσμης ηλεκτρονίων της ίδιας προδιαγραφής.Η σχάρα τεμαχίων έχει σχεδιαστεί με δομή περιστροφής και περιστροφής, η οποία μπορεί να προσαρμοστεί σε τεμάχια εργασίας διαφόρων σχημάτων και χρησιμοποιείται ευρύτερα.
(2) Χρησιμοποιώντας το κυλινδρικό σύστημα ψεκασμού στόχων magnetron μέσης συχνότητας και το βοηθητικό σύστημα πηγής ιόντων, το φιλμ επίστρωσης είναι συμπαγές, με υψηλό και σταθερό δείκτη διάθλασης, ισχυρή πρόσφυση και δεν είναι εύκολο να προσροφηθεί μόρια υδρατμών.Σε διάφορα περιβάλλοντα, το φιλμ διατηρεί πιο σταθερή οπτική απόδοση από το φιλμ που εναποτίθεται από τον παραδοσιακό εξοπλισμό εξάτμισης δέσμης ηλεκτρονίων.
(3) Εξοπλισμένο με σύστημα παρακολούθησης κρυσταλλικού ελέγχου για τον ακριβή έλεγχο του πάχους του φιλμ, η διαδικασία έχει υψηλή σταθερότητα και καλή επαναληψιμότητα.Το σύστημα κλειστού βρόχου και αυτόματου ελέγχου SPEEDFLO μπορούν να βελτιώσουν αποτελεσματικά τον ρυθμό εναπόθεσης του SiO2.
(4) Ο σχεδιασμός του θερμοστατικού εξαρτήματος μπορεί να ελέγξει αποτελεσματικά τη θερμοκρασία του προϊόντος και μπορεί να προσαρμοστεί σε εξαιρετικά λεπτά προϊόντα PET και PC.