CFM1916

(1) Стійка для заготовок має циліндричну конструкцію з великою площею покриття.Ємність завантаження продукту вдвічі більша, ніж у обладнання для електронно-променевого випаровування тієї ж специфікації.Стелаж для заготовок розроблений із структурою обертання та обертання, яка може адаптуватися до заготовок різної форми та ширше використовується.
(2) Використовуючи систему розпилення циліндричної мішені середньої частоти магнетрону та допоміжну систему джерела іонів, плівка покриття є компактною, має високий і стабільний показник заломлення, міцну адгезію, і нелегко адсорбувати молекули водяної пари.У різних середовищах плівка зберігає більш стабільні оптичні характеристики, ніж плівка, нанесена за допомогою традиційного обладнання для електронно-променевого випаровування.
(3) Оснащений системою моніторингу керування кристалами для точного контролю товщини плівки, процес має високу стабільність і хорошу повторюваність.Система автоматичного керування з замкнутим циклом SPEEDFLO може ефективно покращити швидкість осадження SiO2.
(4) Конструкція термостатичного кріплення може ефективно контролювати температуру продукту та може адаптуватися до ультратонких виробів з ПЕТ та ПК.