CFM1916

(1) ကြီးမားသော coating area နှင့်အတူ workpiece rack သည် ဆလင်ဒါပုံစံ ဒီဇိုင်းကို လက်ခံပါသည်။ကုန်ပစ္စည်းတင်နိုင်မှုစွမ်းရည်သည် တူညီသောသတ်မှတ်ချက်ရှိ အီလက်ထရွန်ရောင်ခြည်ငွေ့ပျံသည့်ကိရိယာများထက် နှစ်ဆဖြစ်သည်။workpieces rack ကို revolution နှင့် rotation structure ဖြင့် ဒီဇိုင်းထုတ်ထားပြီး ပုံသဏ္ဍာန်အမျိုးမျိုး၏ workpieces များနှင့် လိုက်လျောညီထွေဖြစ်အောင် ပြုလုပ်နိုင်ပြီး ပိုမိုတွင်ကျယ်စွာ အသုံးပြုပါသည်။
(2) အလယ်အလတ်ကြိမ်နှုန်း Magnetron ဆလင်ဒါပစ်မှတ် sputtering စနစ်နှင့် အိုင်းယွန်းရင်းမြစ် အရန်စနစ်တို့ကို အသုံးပြု၍ အပေါ်ယံရုပ်ရှင်သည် ကျစ်လစ်သိပ်သည်းပြီး၊ မြင့်မားပြီး တည်ငြိမ်သောအလင်းယိုင်မှုညွှန်းကိန်း၊ ခိုင်ခံ့သော ကပ်တွယ်မှုရှိပြီး ရေငွေ့မော်လီကျူးများကို စုပ်ယူရန် မလွယ်ကူပါ။အမျိုးမျိုးသောပတ်ဝန်းကျင်တွင်၊ ရုပ်ရှင်သည် သမားရိုးကျ အီလက်ထရွန်ရောင်ခြည်အငွေ့ပျံသည့်ကိရိယာမှထည့်ထားသော ရုပ်ရှင်ထက် ပို၍တည်ငြိမ်သော optical စွမ်းဆောင်ရည်ကို ထိန်းသိမ်းသည်။
(3) ဖလင်အထူကို တိကျစွာထိန်းချုပ်ရန် crystal control monitoring system တပ်ဆင်ထားပြီး၊ လုပ်ငန်းစဉ်သည် မြင့်မားသောတည်ငြိမ်မှုနှင့် ထပ်တလဲလဲလုပ်ဆောင်နိုင်မှုကောင်းမွန်ပါသည်။SPEEDFLO ကွင်းပိတ်နှင့် အလိုအလျောက် ထိန်းချုပ်မှုစနစ်သည် SiO2 ၏ အစစ်ခံနှုန်းကို ထိရောက်စွာ တိုးတက်စေနိုင်သည်။
(4) အပူချိန်ထိန်းကိရိယာ ဒီဇိုင်းသည် ထုတ်ကုန်အပူချိန်ကို ထိထိရောက်ရောက် ထိန်းချုပ်နိုင်ပြီး အလွန်ပါးလွှာသော PET နှင့် PC ထုတ်ကုန်များနှင့် လိုက်လျောညီထွေဖြစ်စေနိုင်သည်။