Qızdırmanın buxarlanma mənbəyində olan film təbəqəsi membran hissəciklərini atomlar (və ya molekullar) şəklində qaz fazasına daxil edə bilər. Buxarlanma mənbəyinin yüksək temperaturu altında membranın səthindəki atomlar və ya molekullar səthi gərginliyi aradan qaldırmaq və səthdən buxarlanmaq üçün kifayət qədər enerji alırlar. Bu buxarlanmış atomlar və ya molekullar qaz halında vakuumda, yəni qaz fazı məkanında mövcuddur. metal və ya qeyri-metal materiallar.
Vakuum mühitində membran materiallarının isitmə və buxarlanma prosesləri yaxşılaşdırıla bilər. Vakuum mühiti atmosfer təzyiqinin buxarlanma prosesinə təsirini azaldır, buxarlanma prosesini asanlaşdırır. Atmosfer təzyiqində qazın müqavimətini aradan qaldırmaq üçün materialın daha böyük təzyiqə məruz qalması lazımdır, halbuki vakuumda bu müqavimət xeyli azalır və materialın buxarlanmasını asanlaşdırır. Buxarlanma örtmə prosesində buxarlanma mənbəyi materialının buxarlanma temperaturu və buxar təzyiqi buxarlanma mənbəyi materialının seçilməsində mühüm amildir. Cd (Se, s) örtüyü üçün onun buxarlanma temperaturu adətən 1000 ~ 2000 ℃-də olur, buna görə də uyğun buxarlanma temperaturu olan buxarlanma mənbəyi materialını seçməlisiniz. Atmosfer təzyiqi 2400 ℃ buxarlanma temperaturunda alüminium kimi, lakin vakuum şəraitində onun buxarlanma temperaturu əhəmiyyətli dərəcədə azalacaq. Bunun səbəbi, vakuum maneəsində atmosfer molekullarının olmamasıdır ki, alüminium atomları və ya molekulları səthdən daha asan buxarlana bilsin. Bu fenomen vakuum buxarlanma örtüyü üçün mühüm üstünlükdür. Vakuum atmosferində film materialının buxarlanması daha asan olur ki, daha aşağı temperaturda nazik təbəqələr əmələ gələ bilsin. Bu aşağı temperatur materialın oksidləşməsini və parçalanmasını azaldır, beləliklə, daha yüksək keyfiyyətli filmlərin hazırlanmasına kömək edir.
Vakuum örtüyü zamanı film materialının buxarlarının bərk və ya maye halında tarazlaşdığı təzyiqə həmin temperaturda doyma buxar təzyiqi deyilir. Bu təzyiq müəyyən bir temperaturda buxarlanma və kondensasiyanın dinamik tarazlığını əks etdirir. Tipik olaraq, vakuum kamerasının digər hissələrindəki temperatur buxarlanma mənbəyinin temperaturundan çox aşağı olur, bu da buxarlanan membran atomlarının və ya molekullarının kameranın digər hissələrində kondensasiyasını asanlaşdırır. Bu halda, buxarlanma sürəti kondensasiya sürətindən çox olarsa, dinamik tarazlıqda buxar təzyiqi doyma buxar təzyiqinə çatacaqdır. Yəni bu zaman buxarlanan atomların və ya molekulların sayı qatılaşan sayına bərabər olur və dinamik tarazlıq əldə edilir.
- Bu məqalə nəşr olunurvakuum örtük maşın istehsalçısıGuangdong Zhenhua
Göndərmə vaxtı: 27 sentyabr 2024-cü il