ZCL0608

Обладнання поєднує в собі технологію магнетронного розпилення та резистивного випаровування, що забезпечує рішення для покриття різноманітних підкладок.
Експериментальне обладнання для нанесення покриттів в основному використовується в університетах та науково-дослідних установах і може відповідати різноманітним експериментальним вимогам. Для обладнання зарезервовані різні структурні цілі, які можна гнучко налаштувати для задоволення потреб наукових досліджень та розробок у різних галузях. Можна вибрати систему магнетронного розпилення, систему катодної дуги, систему електронно-променевого випаровування, систему резистивного випаровування, CVD, PECVD, джерело іонів, систему зміщення, систему нагрівання, тривимірне пристосування тощо. Клієнти можуть вибирати відповідно до своїх потреб.
Обладнання має такі характеристики, як гарний зовнішній вигляд, компактна конструкція, невелика площа підлоги, високий ступінь автоматизації, проста та гнучка експлуатація, стабільна робота та легке обслуговування.
Обладнання може використовуватися для пластику, нержавіючої сталі, гальванічних виробів/пластикових деталей, скла, кераміки та інших матеріалів. Можна готувати прості металеві шари, такі як титан, хром, срібло, мідь, алюміній, або плівки металевих сполук, таких як TiN / TiCN / TiC / TiO2 / TiAlN / CrN / ZrN / CrC.