Добро пожаловать в компанию Guangdong Zhenhua Technology Co., Ltd.
page_banner

Новости

  • Введение в принцип PVD

    Введение в принцип PVD

    Введение: В мире передовой технологии обработки поверхностей метод физического осаждения из паровой фазы (PVD) становится одним из наиболее эффективных способов повышения производительности и долговечности различных материалов. Задумывались ли вы когда-нибудь, как работает эта передовая технология? Сегодня мы углубимся в сложные механические процессы P…
    Читать далее
  • Технология оптического покрытия: улучшенные визуальные эффекты.

    В современном быстро меняющемся мире, где визуальный контент оказывает огромное влияние, технология оптических покрытий играет важную роль в улучшении качества различных дисплеев. От смартфонов до телевизионных экранов, оптические покрытия произвели революцию в том, как мы воспринимаем и переживаем визуальный контент. ...
    Читать далее
  • Улучшение качества магнетронного напыления с помощью источника питания на основе дугового разряда.

    Улучшение качества магнетронного напыления с помощью источника питания на основе дугового разряда.

    Магнетронное распыление покрытия осуществляется в тлеющем разряде, при низкой плотности тока разряда и низкой плотности плазмы в камере нанесения покрытия. Это обуславливает такие недостатки технологии магнетронного распыления, как низкая сила сцепления пленки с подложкой, низкая скорость ионизации металла и низкая скорость осаждения...
    Читать далее
  • Использование радиочастотного разряда

    Использование радиочастотного разряда

    1. Подходит для напыления и нанесения изоляционных пленок. Быстрое изменение полярности электрода позволяет напрямую напылять изоляционные мишени для получения изоляционных пленок. Если для напыления и нанесения изоляционной пленки используется источник постоянного тока, изоляционная пленка будет блокировать положительные ионы...
    Читать далее
  • Технические характеристики вакуумно-испарительного нанесения покрытия

    Технические характеристики вакуумно-испарительного нанесения покрытия

    1. Процесс вакуумного напыления включает испарение пленочных материалов, транспортировку атомов пара в высоком вакууме, а также процесс зарождения и роста атомов пара на поверхности заготовки. 2. Степень вакуума осаждения при вакуумном напылении высока, как правило...
    Читать далее
  • Виды твердых покрытий

    Виды твердых покрытий

    Нитрид титана (TiN) — это первое твердое покрытие, используемое в режущих инструментах, обладающее такими преимуществами, как высокая прочность, высокая твердость и износостойкость. Это первый промышленный и широко используемый материал для твердых покрытий, применяемый в инструментах и ​​пресс-формах с покрытием. Первоначально твердое покрытие TiN наносилось при температуре 1000 ℃...
    Читать далее
  • Характеристики плазменной модификации поверхности

    Характеристики плазменной модификации поверхности

    Высокоэнергетическая плазма может бомбардировать и облучать полимерные материалы, разрывая их молекулярные цепи, образуя активные группы, увеличивая поверхностную энергию и вызывая травление. Плазменная обработка поверхности не влияет на внутреннюю структуру и характеристики основного материала, а лишь существенно...
    Читать далее
  • Процесс нанесения ионного покрытия с помощью маломощного дугового источника

    Процесс нанесения ионного покрытия с помощью маломощного дугового источника

    Процесс нанесения ионного покрытия с использованием катодно-дугового источника в основном аналогичен другим технологиям нанесения покрытий, за исключением некоторых операций, таких как установка заготовок и вакуумная очистка. 1. Бомбардировочная очистка заготовок. Перед нанесением покрытия в камеру для нанесения покрытия подается аргон...
    Читать далее
  • Характеристики и методы генерации потока дуговых электронов

    Характеристики и методы генерации потока дуговых электронов

    1. Характеристики потока электронов в дуговом разряде. Плотность потока электронов, ионов и высокоэнергетических нейтральных атомов в дуговой плазме, генерируемой дуговым разрядом, значительно выше, чем в тлеющем разряде. В ней ионизировано больше газовых и металлических ионов, возбуждены высокоэнергетические атомы, и происходит активная фазовая реакция...
    Читать далее
  • Области применения плазменной модификации поверхности

    Области применения плазменной модификации поверхности

    1) Плазменная модификация поверхности в основном относится к определенным модификациям бумаги, органических пленок, текстиля и химических волокон. Использование плазмы для модификации текстиля не требует применения активаторов, и процесс обработки не повреждает характеристики самих волокон. ...
    Читать далее
  • Применение ионного покрытия в области оптических тонких пленок.

    Применение ионного покрытия в области оптических тонких пленок.

    Области применения оптических тонких пленок очень широки и охватывают широкий спектр применений: от очков, объективов фотоаппаратов, камер мобильных телефонов, ЖК-экранов для мобильных телефонов, компьютеров и телевизоров, светодиодного освещения, биометрических устройств до энергосберегающих окон в автомобилях и зданиях, а также медицинских инструментов и т.д.
    Читать далее
  • Пленки для информационных дисплеев и технология ионного покрытия

    Пленки для информационных дисплеев и технология ионного покрытия

    1. Типы пленок в информационных дисплеях. Помимо тонких пленок TFT-LCD и OLED, информационные дисплеи также включают в себя пленки для проводящих электродов и прозрачные пленки для пиксельных электродов в дисплейной панели. Процесс нанесения покрытия является ключевым процессом в TFT-LCD и OLED дисплеях. С непрерывным развитием...
    Читать далее
  • Закон роста пленочного слоя, полученного методом вакуумного испарения.

    Закон роста пленочного слоя, полученного методом вакуумного испарения.

    В процессе нанесения покрытий методом вакуумного испарения зарождение и рост пленочного слоя являются основой различных технологий ионного нанесения покрытий. 1. Зарождение. В технологии нанесения покрытий методом вакуумного испарения, после испарения частиц пленочного слоя из источника испарения в виде атомов, они непосредственно перемещаются к поверхности...
    Читать далее
  • Общие характеристики усовершенствованной технологии ионного покрытия тлеющим разрядом

    Общие характеристики усовершенствованной технологии ионного покрытия тлеющим разрядом

    1. Низкое смещение обрабатываемой детали. Из-за добавления устройства, увеличивающего скорость ионизации, плотность разрядного тока возрастает, а напряжение смещения снижается до 0,5–1 кВ. Обратное распыление, вызванное чрезмерной бомбардировкой высокоэнергетическими ионами, и разрушительное воздействие на поверхность обрабатываемой детали...
    Читать далее
  • Преимущества цилиндрических мишеней

    Преимущества цилиндрических мишеней

    1) Цилиндрические мишени имеют более высокую степень использования, чем плоские. В процессе нанесения покрытия, будь то вращающаяся магнитная или вращающаяся трубчатая цилиндрическая мишень для магнетронного распыления, все части поверхности трубки мишени непрерывно проходят через зону распыления, создаваемую перед...
    Читать далее