Il-manifattura ta' apparati ottiċi b'film irqiq titwettaq f'kamra tal-vakwu, u t-tkabbir tas-saff tal-film huwa proċess mikroskopiku. Madankollu, fil-preżent, il-proċessi makroskopiċi li jistgħu jiġu kkontrollati direttament huma xi fatturi makroskopiċi li għandhom relazzjoni indiretta mal-kwalità tas-saff tal-film. Anke hekk, permezz ta' riċerka sperimentali persistenti fit-tul, in-nies sabu r-relazzjoni regolari bejn il-kwalità tal-film u dawn il-fatturi makro, li saret speċifikazzjoni tal-proċess biex tiggwida l-manifattura ta' apparati tal-ivvjaġġar tal-film, u għandha rwol importanti fil-manifattura ta' apparati ottiċi b'film irqiq ta' kwalità għolja.
1. L-effett tal-kisi bil-vakwu
L-influwenza tal-grad tal-vakwu fuq il-proprjetajiet tal-film hija dovuta għat-telf tal-enerġija u r-reazzjoni kimika kkawżata mill-ħabta tal-fażi tal-gass bejn il-gass residwu u l-atomi u l-molekuli tal-film. Jekk il-grad tal-vakwu jkun baxx, il-probabbiltà ta' fużjoni bejn il-molekuli tal-fwar tal-materjal tal-film u l-molekuli tal-gass li jifdal tiżdied, u l-enerġija kinetika tal-molekuli tal-fwar titnaqqas ħafna, u b'hekk il-molekuli tal-fwar ma jkunux jistgħu jilħqu s-sottostrat, jew ma jkunux jistgħu jgħaddu mis-saff ta' adsorbiment tal-gass fuq is-sottostrat, jew bilkemm ikunu jistgħu jgħaddu mis-saff ta' adsorbiment tal-gass iżda l-enerġija ta' adsorbiment mas-sottostrat tkun żgħira ħafna. Bħala riżultat, il-film depożitat minn apparati ottiċi ta' film irqiq ikun maħlul, id-densità tal-akkumulazzjoni tkun baxxa, is-saħħa mekkanika tkun fqira, il-kompożizzjoni kimika ma tkunx pura, u l-indiċi refrattiv u l-ebusija tas-saff tal-film ikunu fqar.
Ġeneralment, biż-żieda tal-vakwu, l-istruttura tal-film titjieb, il-kompożizzjoni kimika ssir pura, iżda l-istress jiżdied. Iktar ma tkun għolja l-purità tal-film tal-metall u l-film tas-semikondutturi, aħjar ikun, jiddependu fuq il-grad ta' vakwu, li jeħtieġ vojt dirett ogħla. Il-proprjetajiet ewlenin tal-films affettwati mill-grad ta' vakwu huma l-indiċi refrattiv, it-tifrix, is-saħħa mekkanika u l-insolubbiltà.
2. L-influwenza tar-rata tad-depożizzjoni
Ir-rata ta' depożizzjoni hija parametru tal-proċess li jiddeskrivi l-veloċità tad-depożizzjoni tal-film, espressa mill-ħxuna tal-film iffurmat fuq il-wiċċ tal-kisi f'unità ta' ħin, u l-unità hija nm·s-1.
Ir-rata ta' depożizzjoni għandha influwenza ovvja fuq l-indiċi refrattiv, is-sodizza, is-saħħa mekkanika, l-adeżjoni u l-istress tal-film. Jekk ir-rata ta' depożizzjoni tkun baxxa, il-biċċa l-kbira tal-molekuli tal-fwar jerġgħu lura mis-sottostrat, il-formazzjoni ta' nuklei tal-kristall tkun bil-mod, u l-kondensazzjoni tista' titwettaq biss fuq aggregati kbar, u b'hekk l-istruttura tal-film tinħall. Biż-żieda fir-rata ta' depożizzjoni, jiġi ffurmat film fin u dens, it-tifrix tad-dawl jonqos, u s-sodizza tiżdied. Għalhekk, kif tagħżel sew ir-rata ta' depożizzjoni tal-film hija kwistjoni importanti fil-proċess ta' evaporazzjoni, u l-għażla speċifika għandha tiġi determinata skont il-materjal tal-film.
Hemm żewġ metodi biex tittejjeb ir-rata ta' depożizzjoni: (1) metodu li jżid it-temperatura tas-sors tal-evaporazzjoni (2) metodu li jżid l-erja tas-sors tal-evaporazzjoni.
Ħin tal-posta: 29 ta' Marzu 2024