D'Hierstellung vun opteschen Dënnfilm-Apparater gëtt an enger Vakuumkammer duerchgefouert, an d'Wuesstum vun der Filmschicht ass e mikroskopesche Prozess. Am Moment sinn awer déi makroskopesch Prozesser, déi direkt kontrolléiert kënne ginn, e puer makroskopesch Faktoren, déi en indirekten Zesummenhang mat der Qualitéit vun der Filmschicht hunn. Trotzdeem hunn d'Leit duerch laangfristeg, persistent experimentell Fuerschung déi reegelméisseg Bezéiung tëscht der Filmqualitéit an dëse Makrofaktoren fonnt, déi zu enger Prozessspezifikatioun ginn ass, déi d'Hierstellung vu Filmreesapparater leet, an eng wichteg Roll bei der Hierstellung vun héichwäertegen opteschen Dënnfilm-Apparater spillt.
1. Den Effekt vum Vakuumplatéieren
Den Afloss vum Vakuumgrad op d'Eegeschafte vum Film ass wéinst dem Energieverloscht an der chemescher Reaktioun, déi duerch d'Gasphasenkollisioun tëscht dem Reschtgas an den Atomer a Molekülle vum Film verursaacht ginn. Wann de Vakuumgrad niddreg ass, klëmmt d'Wahrscheinlechkeet vun enger Fusioun tëscht den Dampmolekülle vum Filmmaterial an de verbleiwenen Gasmolekülle, an d'kinetesch Energie vun den Dampmolekülle gëtt staark reduzéiert, wouduerch d'Dampmolekülle net méi de Substrat erreechen oder net duerch d'Gasadsorptiounsschicht um Substrat briechen oder kaum duerch d'Gasadsorptiounsschicht briechen, awer d'Adsorptiounsenergie mam Substrat ganz kleng ass. Dofir ass de Film, deen duerch optesch Dënnfilmapparater ofgesat gëtt, locker, d'Akkumulatiounsdicht ass niddreg, d'mechanesch Stäerkt ass schlecht, d'chemesch Zesummesetzung ass net reng, an de Breechungsindex an d'Häert vun der Filmschicht si schlecht.
Allgemeng gëtt mat der Erhéijung vum Vakuum d'Struktur vum Film verbessert, d'chemesch Zesummesetzung gëtt reng, awer d'Spannung klëmmt. Wat méi héich d'Reinheet vum Metallfilm an dem Hallefleederfilm ass, wat besser, si hänken vum Grad vum Vakuum of, wat e méi héije direkten Hohlraum erfuerdert. Déi wichtegst Eegeschafte vu Filmer, déi vum Vakuumgrad beaflosst ginn, sinn de Breechungsindex, d'Streuung, d'mechanesch Stäerkt an d'Onléislechkeet.
2. Afloss vun der Oflagerungsquote
D'Oflagerungsquote ass e Prozessparameter, deen d'Oflagerungsvitesse vum Film beschreift, ausgedréckt duerch d'Déckt vum Film, deen op der Uewerfläch vun der Beschichtung geformt gëtt, an enger Zäiteenheet, an d'Eenheet ass nm·s-1.
D'Oflagerungsquote huet en offensichtlechen Afloss op de Breechungsindex, d'Festegkeet, d'mechanesch Stäerkt, d'Adhäsioun an d'Spannung vum Film. Wann d'Oflagerungsquote niddreg ass, kommen déi meescht Dampmoleküle vum Substrat zréck, d'Bildung vu Kristallkären ass lues, an d'Kondensatioun kann nëmmen op groussen Aggregaten duerchgefouert ginn, wouduerch d'Struktur vum Film locker gëtt. Mat der Erhéijung vun der Oflagerungsquote gëtt e feinen an dichten Film geformt, d'Liichtstreuung hëlt of, an d'Festegkeet hëlt zou. Dofir ass d'Auswiel vun der Oflagerungsquote vum Film e wichtegt Thema am Verdampfungsprozess, an déi spezifesch Auswiel soll jee no dem Filmmaterial bestëmmt ginn.
Et gëtt zwou Methoden fir d'Oflagerungsquote ze verbesseren: (1) d'Method mat der Temperatur vun der Verdampfungsquell erhéijen (2) d'Method mat der Fläch vun der Verdampfungsquell erhéijen.
Zäitpunkt vun der Verëffentlechung: 29. Mäerz 2024