Systema obductionis vacui est technologia adhibita ad pelliculam tenuem vel obductionem superficiei in ambitu vacuo applicandam. Hic processus obductionem altae qualitatis, uniformem et durabilem praestat, quae in variis industriis, ut electronicis, opticis, autocineticis et aëronauticis, maximi momenti est. Sunt genera varia systematum obductionis vacui, quorum unumquodque ad usus specificos aptum est. Hic sunt nonnulla genera praecipua:
Depositio Vaporis Physica (PVD): Hic processus translationem physicam materiae a fonte solido vel liquido ad substratum implicat. Methodi communes includunt:
Pulverizatio cathodica: Materia ex scopo eicitur et in substrato deponitur.
Evaporatio: Materia calefacta est donec evaporet et deinde in substrato condensatur.
Depositio Vaporis Chemica (DVC): Hic processus reactionem chemicam inter praecursorem vaporis et superficiem substrati implicat, pelliculam solidam formans. Variationes includunt:
CVD Plasma Augmentatum (PECVD): Plasma utitur ad reactiones chemicas amplificandas.
Depositio vaporum metallo-organica (DVOM): Utitur compositis metallo-organicis ut praecursoribus.
Depositio Stratorum Atomicorum (ALD): Processus valde moderatus qui strata atomica singillatim deponit, crassitudinem et compositionem accuratam curans.
Magnetron Sputtering: Genus PVD ubi campi magnetici adhibentur ad plasmam coercendum, efficientiam processus sputtering augendo.
Depositio Fasciculo Ionico: Fasciculos ionicos adhibet ad materiam e scopo spargendam et in substratum deponendum.
Applicationes:
Semiconductores: Tegumenta pro microplacis et componentibus electronicis.
Optica: Tegumenta antireflexa, specula et lentes.
Automotiva: Tegumenta pro partibus machinae et ornamenta.
Aerospatiale: Tegumenta impedimenta thermalia et strata protectora.
Beneficia:
Obductio Uniformis: Crassitudinem et compositionem constantem per substratum assequitur.
Alta Adhaesio: Tegumenta bene substrato adhaerent, firmitatem augentes.
Puritas et Qualitas: Ambitus vacui contaminationem minuit, unde obductiones altae puritatis proveniunt.
–Hic articulus editus est abFabricator machinae ad obducendum vacuumGuangdong Zhenhua
Tempus publicationis: IX Iul. MMXXIV