ತೆಳುವಾದ ಫಿಲ್ಮ್ ಸಾಧನಗಳ ಗುಣಮಟ್ಟದ ಮೇಲೆ ಪರಿಣಾಮ ಬೀರುವ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯ ಅಂಶಗಳು ಮತ್ತು ಕಾರ್ಯವಿಧಾನಗಳು (ಭಾಗ 1)

ಆಪ್ಟಿಕಲ್ ತೆಳುವಾದ ಫಿಲ್ಮ್ ಸಾಧನಗಳ ತಯಾರಿಕೆಯನ್ನು ನಿರ್ವಾತ ಕೊಠಡಿಯಲ್ಲಿ ನಡೆಸಲಾಗುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಫಿಲ್ಮ್ ಪದರದ ಬೆಳವಣಿಗೆ ಸೂಕ್ಷ್ಮ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯಾಗಿದೆ. ಆದಾಗ್ಯೂ, ಪ್ರಸ್ತುತ, ನೇರವಾಗಿ ನಿಯಂತ್ರಿಸಬಹುದಾದ ಮ್ಯಾಕ್ರೋಸ್ಕೋಪಿಕ್ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಗಳು ಫಿಲ್ಮ್ ಪದರದ ಗುಣಮಟ್ಟದೊಂದಿಗೆ ಪರೋಕ್ಷ ಸಂಬಂಧವನ್ನು ಹೊಂದಿರುವ ಕೆಲವು ಮ್ಯಾಕ್ರೋಸ್ಕೋಪಿಕ್ ಅಂಶಗಳಾಗಿವೆ. ಹಾಗಿದ್ದರೂ, ದೀರ್ಘಕಾಲೀನ ನಿರಂತರ ಪ್ರಾಯೋಗಿಕ ಸಂಶೋಧನೆಯ ಮೂಲಕ, ಜನರು ಫಿಲ್ಮ್ ಗುಣಮಟ್ಟ ಮತ್ತು ಈ ಮ್ಯಾಕ್ರೋ ಅಂಶಗಳ ನಡುವಿನ ನಿಯಮಿತ ಸಂಬಂಧವನ್ನು ಕಂಡುಕೊಂಡಿದ್ದಾರೆ, ಇದು ಫಿಲ್ಮ್ ಪ್ರಯಾಣ ಸಾಧನಗಳ ತಯಾರಿಕೆಗೆ ಮಾರ್ಗದರ್ಶನ ನೀಡುವ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯ ವಿವರಣೆಯಾಗಿದೆ ಮತ್ತು ಉತ್ತಮ-ಗುಣಮಟ್ಟದ ಆಪ್ಟಿಕಲ್ ತೆಳುವಾದ ಫಿಲ್ಮ್ ಸಾಧನಗಳ ತಯಾರಿಕೆಯಲ್ಲಿ ಪ್ರಮುಖ ಪಾತ್ರ ವಹಿಸುತ್ತದೆ.

1. ನಿರ್ವಾತ ಲೇಪನದ ಪರಿಣಾಮ

ಫಿಲ್ಮ್‌ನ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳ ಮೇಲೆ ನಿರ್ವಾತ ಪದವಿಯ ಪ್ರಭಾವವು ಉಳಿದ ಅನಿಲ ಮತ್ತು ಫಿಲ್ಮ್ ಪರಮಾಣುಗಳು ಮತ್ತು ಅಣುಗಳ ನಡುವಿನ ಅನಿಲ ಹಂತದ ಘರ್ಷಣೆಯಿಂದ ಉಂಟಾಗುವ ಶಕ್ತಿ ನಷ್ಟ ಮತ್ತು ರಾಸಾಯನಿಕ ಕ್ರಿಯೆಯಿಂದಾಗಿ. ನಿರ್ವಾತ ಪದವಿ ಕಡಿಮೆಯಿದ್ದರೆ, ಫಿಲ್ಮ್ ವಸ್ತುವಿನ ಆವಿ ಅಣುಗಳು ಮತ್ತು ಉಳಿದ ಅನಿಲ ಅಣುಗಳ ನಡುವಿನ ಸಮ್ಮಿಳನದ ಸಂಭವನೀಯತೆ ಹೆಚ್ಚಾಗುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಆವಿ ಅಣುಗಳ ಚಲನ ಶಕ್ತಿಯು ಬಹಳ ಕಡಿಮೆಯಾಗುತ್ತದೆ, ಇದರಿಂದಾಗಿ ಆವಿ ಅಣುಗಳು ತಲಾಧಾರವನ್ನು ತಲುಪಲು ಸಾಧ್ಯವಾಗುವುದಿಲ್ಲ, ಅಥವಾ ತಲಾಧಾರದ ಮೇಲಿನ ಅನಿಲ ಹೀರಿಕೊಳ್ಳುವ ಪದರವನ್ನು ಭೇದಿಸಲು ಸಾಧ್ಯವಾಗುವುದಿಲ್ಲ, ಅಥವಾ ಅನಿಲ ಹೀರಿಕೊಳ್ಳುವ ಪದರವನ್ನು ಭೇದಿಸಲು ಸಾಧ್ಯವಾಗುವುದಿಲ್ಲ ಆದರೆ ತಲಾಧಾರದೊಂದಿಗೆ ಹೀರಿಕೊಳ್ಳುವ ಶಕ್ತಿಯು ತುಂಬಾ ಚಿಕ್ಕದಾಗಿದೆ. ಪರಿಣಾಮವಾಗಿ, ಆಪ್ಟಿಕಲ್ ತೆಳುವಾದ ಫಿಲ್ಮ್ ಸಾಧನಗಳಿಂದ ಠೇವಣಿ ಮಾಡಲಾದ ಫಿಲ್ಮ್ ಸಡಿಲವಾಗಿರುತ್ತದೆ, ಶೇಖರಣಾ ಸಾಂದ್ರತೆ ಕಡಿಮೆಯಾಗಿದೆ, ಯಾಂತ್ರಿಕ ಶಕ್ತಿ ಕಳಪೆಯಾಗಿದೆ, ರಾಸಾಯನಿಕ ಸಂಯೋಜನೆಯು ಶುದ್ಧವಾಗಿಲ್ಲ ಮತ್ತು ಫಿಲ್ಮ್ ಪದರದ ವಕ್ರೀಭವನ ಸೂಚ್ಯಂಕ ಮತ್ತು ಗಡಸುತನ ಕಳಪೆಯಾಗಿದೆ.

ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ, ನಿರ್ವಾತ ಹೆಚ್ಚಾದಂತೆ, ಫಿಲ್ಮ್‌ನ ರಚನೆಯು ಸುಧಾರಿಸುತ್ತದೆ, ರಾಸಾಯನಿಕ ಸಂಯೋಜನೆಯು ಶುದ್ಧವಾಗುತ್ತದೆ, ಆದರೆ ಒತ್ತಡವು ಹೆಚ್ಚಾಗುತ್ತದೆ. ಲೋಹದ ಫಿಲ್ಮ್ ಮತ್ತು ಸೆಮಿಕಂಡಕ್ಟರ್ ಫಿಲ್ಮ್‌ನ ಹೆಚ್ಚಿನ ಶುದ್ಧತೆ, ಉತ್ತಮವಾಗಿರುತ್ತದೆ, ಅವು ನಿರ್ವಾತದ ಮಟ್ಟವನ್ನು ಅವಲಂಬಿಸಿರುತ್ತದೆ, ಇದಕ್ಕೆ ಹೆಚ್ಚಿನ ನೇರ ಶೂನ್ಯತೆಯ ಅಗತ್ಯವಿರುತ್ತದೆ. ನಿರ್ವಾತ ಪದವಿಯಿಂದ ಪ್ರಭಾವಿತವಾದ ಫಿಲ್ಮ್‌ಗಳ ಮುಖ್ಯ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳು ವಕ್ರೀಭವನ ಸೂಚ್ಯಂಕ, ಚದುರುವಿಕೆ, ಯಾಂತ್ರಿಕ ಶಕ್ತಿ ಮತ್ತು ಕರಗದಿರುವಿಕೆ.
2. ಠೇವಣಿ ದರದ ಪ್ರಭಾವ

ಠೇವಣಿ ದರವು ಫಿಲ್ಮ್‌ನ ಶೇಖರಣಾ ವೇಗವನ್ನು ವಿವರಿಸುವ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯ ನಿಯತಾಂಕವಾಗಿದ್ದು, ಇದನ್ನು ಯೂನಿಟ್ ಸಮಯದಲ್ಲಿ ಲೋಹಲೇಪದ ಮೇಲ್ಮೈಯಲ್ಲಿ ರೂಪುಗೊಂಡ ಫಿಲ್ಮ್‌ನ ದಪ್ಪದಿಂದ ವ್ಯಕ್ತಪಡಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಘಟಕವು nm·s-1 ಆಗಿದೆ.

ಶೇಖರಣಾ ದರವು ಫಿಲ್ಮ್‌ನ ವಕ್ರೀಭವನ ಸೂಚ್ಯಂಕ, ದೃಢತೆ, ಯಾಂತ್ರಿಕ ಶಕ್ತಿ, ಅಂಟಿಕೊಳ್ಳುವಿಕೆ ಮತ್ತು ಒತ್ತಡದ ಮೇಲೆ ಸ್ಪಷ್ಟ ಪ್ರಭಾವ ಬೀರುತ್ತದೆ. ಶೇಖರಣಾ ದರ ಕಡಿಮೆಯಿದ್ದರೆ, ಹೆಚ್ಚಿನ ಆವಿ ಅಣುಗಳು ತಲಾಧಾರದಿಂದ ಹಿಂತಿರುಗುತ್ತವೆ, ಸ್ಫಟಿಕ ನ್ಯೂಕ್ಲಿಯಸ್‌ಗಳ ರಚನೆಯು ನಿಧಾನವಾಗಿರುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಘನೀಕರಣವನ್ನು ದೊಡ್ಡ ಸಮುಚ್ಚಯಗಳ ಮೇಲೆ ಮಾತ್ರ ಕೈಗೊಳ್ಳಬಹುದು, ಹೀಗಾಗಿ ಫಿಲ್ಮ್‌ನ ರಚನೆಯು ಸಡಿಲಗೊಳ್ಳುತ್ತದೆ. ಶೇಖರಣಾ ದರದ ಹೆಚ್ಚಳದೊಂದಿಗೆ, ಸೂಕ್ಷ್ಮ ಮತ್ತು ದಟ್ಟವಾದ ಫಿಲ್ಮ್ ರೂಪುಗೊಳ್ಳುತ್ತದೆ, ಬೆಳಕಿನ ಚದುರುವಿಕೆ ಕಡಿಮೆಯಾಗುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ದೃಢತೆ ಹೆಚ್ಚಾಗುತ್ತದೆ. ಆದ್ದರಿಂದ, ಫಿಲ್ಮ್ ಶೇಖರಣಾ ದರವನ್ನು ಸರಿಯಾಗಿ ಹೇಗೆ ಆಯ್ಕೆ ಮಾಡುವುದು ಆವಿಯಾಗುವಿಕೆ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯಲ್ಲಿ ಒಂದು ಪ್ರಮುಖ ವಿಷಯವಾಗಿದೆ ಮತ್ತು ಫಿಲ್ಮ್ ವಸ್ತುವಿನ ಪ್ರಕಾರ ನಿರ್ದಿಷ್ಟ ಆಯ್ಕೆಯನ್ನು ನಿರ್ಧರಿಸಬೇಕು.

ಶೇಖರಣಾ ದರವನ್ನು ಸುಧಾರಿಸಲು ಎರಡು ವಿಧಾನಗಳಿವೆ: (1) ಆವಿಯಾಗುವಿಕೆಯ ಮೂಲ ತಾಪಮಾನವನ್ನು ಹೆಚ್ಚಿಸುವ ವಿಧಾನ (2) ಆವಿಯಾಗುವಿಕೆಯ ಮೂಲ ಪ್ರದೇಶವನ್ನು ಹೆಚ್ಚಿಸುವ ವಿಧಾನ.