აღჭურვილობა აერთიანებს მაგნეტრონული გაფრქვევისა და წინააღმდეგობის აორთქლების ტექნოლოგიას და უზრუნველყოფს გადაწყვეტას სხვადასხვა სუბსტრატის დასაფარად.
ექსპერიმენტული საფარის მოწყობილობა ძირითადად გამოიყენება უნივერსიტეტებსა და სამეცნიერო-კვლევით დაწესებულებებში და შეუძლია დააკმაყოფილოს ექსპერიმენტული მოთხოვნების ფართო სპექტრი. მოწყობილობისთვის განკუთვნილი სხვადასხვა სტრუქტურული სამიზნეა, რომელთა მოქნილად კონფიგურაცია შესაძლებელია სხვადასხვა სფეროში სამეცნიერო კვლევისა და განვითარების მოთხოვნების დასაკმაყოფილებლად. შესაძლებელია მაგნეტრონული გაფრქვევის სისტემის, კათოდური რკალის სისტემის, ელექტრონული სხივის აორთქლების სისტემის, წინააღმდეგობის აორთქლების სისტემის, CVD, PECVD, იონური წყაროს, მიკერძოების სისტემის, გათბობის სისტემის, სამგანზომილებიანი ფიქსაციის და ა.შ. შერჩევა. მომხმარებლებს შეუძლიათ შეარჩიონ თავიანთი სხვადასხვა საჭიროებების შესაბამისად.
აღჭურვილობას ახასიათებს ლამაზი გარეგნობა, კომპაქტური სტრუქტურა, მცირე ფართობი, ავტომატიზაციის მაღალი ხარისხი, მარტივი და მოქნილი მუშაობა, სტაბილური მუშაობა და მარტივი მოვლა.
აღჭურვილობის გამოყენება შესაძლებელია პლასტმასის, უჟანგავი ფოლადის, ელექტროლიტური მოოქროვილი აპარატურის/პლასტმასის ნაწილების, მინის, კერამიკის და სხვა მასალების დასამუშავებლად. შესაძლებელია მარტივი ლითონის ფენების, როგორიცაა ტიტანი, ქრომი, ვერცხლი, სპილენძი, ალუმინი ან ლითონის ნაერთების ფირების, როგორიცაა TiN / TiCN / TiC / TiO2 / TiAlN / CrN / ZrN / CrC მომზადება.
| ZCL0506 | ZCL0608 | ZCL0810 |
| φ500*H600(მმ) | φ600*H800(მმ) | φ800*H1000(მმ) |