③ コーティングの品質が高い イオン照射により膜の密度が向上し、膜の組織構造が改善されるため、膜層の均一性が良好になり、めっき組織が密になり、ピンホールや気泡が少なくなり、膜層の品質が向上します。
④高い成膜速度、速い成膜速度により、30μm厚の膜を作製できます。
⑤ コーティングに適用可能な基材および膜材料は比較的幅広く、金属化合物、鋼鉄、非鉄金属、石英、セラミック、プラスチックなどの非金属材料の金属または非金属表面へのめっきに適用できます。プラズマの活性は化合物の合成温度を下げるのに役立つため、イオンプレーティングはさまざまな超硬質化合物膜のめっきを容易にします。
イオンプレーティングは上記のような特性を持つため、非常に幅広い用途があります。イオンプレーティング技術は、金属、合金、導電性材料、さらには非導電性材料（高周波バイアスを使用）を基板上にコーティングするために使用できます。イオンプレーティングで成膜される膜は、金属膜、多合金膜、複合膜であり、単層めっき、複合めっき、勾配めっき、ナノ多層めっきも可能です。異なる膜材料、異なる反応ガス、異なるプロセス方法およびパラメータを使用することで、硬質耐摩耗性めっき、緻密で化学的に安定な耐食性めっき、固体潤滑層、多様な色の装飾ロック層、さらには電子、光学、エネルギー科学などの分野で必要とされる特殊機能めっきなど、表面強化めっきを実現できます。イオンプレーティング技術およびイオンプレーティング製品は広く利用されています。
–この記事は以下によって公開されています真空コーティング機メーカー広東振華
投稿日時：2024年1月12日