③ Chất lượng lớp phủ cao: Do sự bắn phá ion có thể cải thiện mật độ màng, cải thiện cấu trúc tổ chức của màng, giúp lớp màng có độ đồng nhất tốt, cấu trúc mạ dày đặc, ít lỗ kim và bọt khí, từ đó nâng cao chất lượng lớp màng.
④Tốc độ lắng đọng cao, tốc độ tạo màng nhanh, có thể tạo màng dày 30µm.
⑤ Vật liệu nền và vật liệu màng áp dụng cho lớp phủ tương đối rộng. Áp dụng cho việc mạ bề mặt kim loại hoặc phi kim loại, các hợp chất kim loại, vật liệu phi kim loại, chẳng hạn như thép, kim loại màu, thạch anh, gốm sứ, nhựa và các vật liệu khác trên bề mặt lớp phủ. Vì hoạt tính của plasma có lợi cho việc hạ thấp nhiệt độ tổng hợp các hợp chất, nên việc mạ ion giúp dễ dàng mạ nhiều loại màng hợp chất siêu cứng khác nhau.
Do có những đặc điểm nêu trên, công nghệ mạ ion có phạm vi ứng dụng cực kỳ rộng. Công nghệ mạ ion có thể được sử dụng để phủ lên kim loại, hợp kim, vật liệu dẫn điện, và thậm chí cả vật liệu không dẫn điện (sử dụng điện áp cao) trên chất nền. Lớp màng được tạo ra bằng phương pháp mạ ion có thể là màng kim loại, màng hợp kim đa thành phần, màng composite, có thể mạ một lớp, cũng có thể mạ composite; cũng có thể mạ gradient và mạ nano đa lớp. Bằng cách sử dụng các vật liệu màng khác nhau, khí phản ứng khác nhau và các phương pháp và thông số xử lý khác nhau, người ta có thể thu được lớp mạ tăng cường bề mặt cứng, chống mài mòn, lớp mạ chống ăn mòn đặc và ổn định về mặt hóa học, lớp bôi trơn rắn, lớp khóa trang trí nhiều màu sắc, cũng như các lớp mạ chức năng đặc biệt theo yêu cầu của điện tử, quang học, khoa học năng lượng và các lĩnh vực khác. Công nghệ mạ ion và các sản phẩm mạ ion đã được sử dụng rộng rãi.
–Bài viết này được phát hành bởiNhà sản xuất máy phủ chân khôngQuảng Đông Chấn Hoa
Thời gian đăng bài: 12/01/2024