③ Kualitas lapisan yang tinggi. Karena penembakan ion dapat meningkatkan kepadatan membran, memperbaiki struktur organisasi membran, membuat lapisan membran seragam, susunan pelapisan yang padat, lebih sedikit lubang dan gelembung, sehingga meningkatkan kualitas lapisan membran.
④Tingkat pengendapan tinggi, kecepatan pembentukan film cepat, dapat menghasilkan film setebal 30um.
⑤ Bahan substrat dan bahan film yang dapat diaplikasikan pada pelapisan relatif luas. Dapat diaplikasikan pada pelapisan permukaan logam atau non-logam dari senyawa logam, bahan non-logam, seperti baja, logam non-ferrous, kuarsa, keramik, plastik, dan bahan lainnya pada permukaan pelapisan. Karena aktivitas plasma kondusif untuk menurunkan suhu sintesis senyawa, pelapisan ion memudahkan pelapisan berbagai film senyawa superkeras.
Karena pelapisan ion memiliki karakteristik di atas, teknologi ini memiliki jangkauan aplikasi yang sangat luas. Teknologi pelapisan ion dapat digunakan untuk melapisi logam, paduan, material konduktif, dan bahkan material non-konduktif (menggunakan bias frekuensi tinggi) pada substrat. Lapisan yang dihasilkan melalui pelapisan ion dapat berupa lapisan logam, lapisan multi-paduan, lapisan senyawa, dapat berupa lapisan tunggal, dapat juga berupa pelapisan komposit; dapat juga berupa pelapisan gradien dan pelapisan nano-multilapisan. Dengan menggunakan berbagai material membran, gas reaksi yang berbeda, serta metode dan parameter proses yang berbeda, dapat diperoleh lapisan penguat permukaan yang tahan aus, lapisan tahan korosi yang padat dan stabil secara kimia, lapisan pelumas padat, berbagai warna lapisan pengunci dekoratif, serta pelapisan fungsional khusus yang dibutuhkan dalam bidang elektronik, optik, ilmu energi, dan lainnya. Teknologi dan produk pelapisan ion telah banyak digunakan.
–Artikel ini dirilis olehprodusen mesin pelapis vakumGuangdong Zhenhua
Waktu posting: 12 Januari 2024