③ Wysoka jakość powłoki Ponieważ bombardowanie jonowe może poprawić gęstość membrany, poprawić jej strukturę organizacyjną, co zapewnia dobrą jednorodność warstwy membrany, gęstą organizację powłoki, mniej dziurek i pęcherzyków, co poprawia jakość warstwy membrany.
④Wysoka szybkość osadzania, szybka prędkość tworzenia filmu, możliwość przygotowania filmu o grubości 30um.
⑤ Materiał podłoża i materiał powłoki są stosunkowo szerokie. Metoda ta nadaje się do powlekania powierzchni metalowych lub niemetalowych związków metali, materiałów niemetalicznych, takich jak stal, metale nieżelazne, kwarc, ceramika, tworzywa sztuczne i inne materiały na powierzchni powłoki. Ponieważ aktywność plazmy sprzyja obniżaniu temperatury syntezy związków, powlekanie jonowe ułatwia powlekanie różnorodnych supertwardych warstw związków.
Ze względu na powyższe cechy, galwanizacja jonowa ma niezwykle szeroki zakres zastosowań. Technologia galwanizacji jonowej może być stosowana do powlekania metali, stopów, materiałów przewodzących, a nawet materiałów nieprzewodzących (z wykorzystaniem polaryzacji o wysokiej częstotliwości) na podłożu. Osadzanie galwaniczne jonowe może być warstwą metalu, wielostopu, warstwy złożonej, może być galwanizowane jednowarstwowo, może być również galwanizowane kompozytowo; może być również galwanizowane gradientowo i nano-wielowarstwowo. Zastosowanie różnych materiałów membranowych, różnych gazów reakcyjnych oraz różnych metod i parametrów procesu pozwala uzyskać wzmocnienie powierzchni, twardą, odporną na zużycie powłokę, gęstą i chemicznie stabilną powłokę odporną na korozję, stałą warstwę smarującą, różnorodne kolory dekoracyjnej warstwy zabezpieczającej, a także w elektronice, optyce, energetyce i innych specjalistycznych zastosowaniach galwanicznych. Technologia galwanizacji jonowej i produkty galwanizacji jonowej są szeroko stosowane.
– Artykuł ten został opublikowany przezproducent maszyn do powlekania próżniowegoGuangdong Zhenhua
Czas publikacji: 12 stycznia 2024 r.