③ Hohe Qualität der Beschichtung Durch Ionenbeschuss wird die Dichte der Membran erhöht, die Organisationsstruktur der Membran verbessert, was zu einer guten Gleichmäßigkeit der Membranschicht, einer dichten Beschichtungsorganisation, weniger Nadellöchern und Blasen führt und somit die Qualität der Membranschicht verbessert.
④Hohe Abscheidungsrate, schnelle Filmbildungsgeschwindigkeit, kann einen 30µm dicken Film herstellen.
⑤ Das für die Beschichtung geeignete Substrat- und Filmmaterial ist relativ breit gefächert. Es eignet sich zur Beschichtung von Metall- und Nichtmetalloberflächen mit Metallverbindungen sowie nichtmetallischen Werkstoffen wie Stahl, Nichteisenmetallen, Quarz, Keramik, Kunststoffen und anderen Materialien. Da die Plasmaaktivität die Synthesetemperatur der Verbindungen senkt, ermöglicht die Ionenplattierung die einfachere Abscheidung verschiedenster hochharter Verbundfilme.
Aufgrund der oben genannten Eigenschaften bietet die Ionenplattierung ein extrem breites Anwendungsspektrum. Mit dieser Technologie lassen sich Metalle, Legierungen, leitfähige und sogar nichtleitende Materialien (mittels Hochfrequenzvorspannung) auf einem Substrat beschichten. Die Ionenplattierung ermöglicht die Abscheidung von Metall-, Mehrschicht-, Verbund-, Gradienten- und Nano-Mehrschichtschichten. Durch den Einsatz unterschiedlicher Membranmaterialien, Reaktionsgase sowie verschiedener Prozessmethoden und -parameter lassen sich Oberflächen mit hoher Verschleißfestigkeit, dichten und chemisch stabilen Korrosionsschutzschichten, Festschmierschichten, dekorativen Schichten in verschiedenen Farben sowie spezielle Funktionsbeschichtungen für Elektronik, Optik, Energietechnik und andere Anwendungsbereiche erzielen. Ionenplattierungstechnologie und -produkte finden daher breite Anwendung.
–Dieser Artikel wurde veröffentlicht vonHersteller von VakuumbeschichtungsmaschinenGuangdong Zhenhua
Veröffentlichungsdatum: 12. Januar 2024