③ Alta calidad del recubrimiento Como el bombardeo iónico puede mejorar la densidad de la membrana, mejorar la estructura organizativa de la membrana, haciendo que la uniformidad de la capa de membrana sea buena, organización de recubrimiento densa, menos poros y burbujas, mejorando así la calidad de la capa de membrana.
④ Alta tasa de deposición, rápida velocidad de formación de película, puede preparar una película de 30 µm de espesor.
⑤ El material del sustrato y el material de la película aplicables al recubrimiento son relativamente amplios. Aplicable al recubrimiento de superficies metálicas o no metálicas de compuestos metálicos, materiales no metálicos, como acero, metales no ferrosos, cuarzo, cerámica, plásticos y otros materiales en la superficie del recubrimiento. Dado que la actividad del plasma favorece la disminución de la temperatura de síntesis de los compuestos, el recubrimiento iónico facilita el recubrimiento de una variedad de películas compuestas súper duras.
Debido a las características mencionadas, el recubrimiento iónico tiene una gama de aplicaciones extremadamente amplia. Esta tecnología permite recubrir metales, aleaciones, materiales conductores e incluso materiales no conductores (mediante polarización de alta frecuencia) sobre un sustrato. La deposición de la película mediante recubrimiento iónico puede ser metálica, multialeación, compuesta, monocapa, compuesta, con gradiente y nanomulticapa. Mediante el uso de diferentes materiales de membrana, gases reactivos y parámetros de proceso, se pueden obtener recubrimientos resistentes al desgaste, densos y químicamente estables, capas de lubricación sólidas, capas decorativas de diversos colores, así como recubrimientos funcionales especiales para electrónica, óptica, energía y otras aplicaciones. La tecnología y los productos de recubrimiento iónico se utilizan ampliamente.
–Este artículo es publicado porfabricante de máquinas de recubrimiento al vacíoGuangdong Zhenhua
Fecha de publicación: 12 de enero de 2024