③ Alta qualidade do revestimento: O bombardeio iônico pode melhorar a densidade da membrana, aprimorar sua estrutura organizacional, resultando em boa uniformidade da camada de membrana, organização de revestimento densa, menos furos e bolhas, melhorando assim a qualidade da camada de membrana.
④ Alta taxa de deposição, alta velocidade de formação de filme, permite a preparação de filmes com 30 µm de espessura.
⑤ O material do substrato e o material do filme aplicáveis ao revestimento são relativamente amplos. Aplicável à deposição de compostos metálicos e materiais não metálicos, como aço, metais não ferrosos, quartzo, cerâmica, plásticos e outros, em superfícies metálicas ou não metálicas. Como a atividade do plasma contribui para a redução da temperatura de síntese dos compostos, a deposição iônica facilita a deposição de uma variedade de filmes compostos superduros.
Devido às características acima mencionadas, a deposição iônica possui uma gama extremamente ampla de aplicações. A tecnologia de deposição iônica pode ser usada para revestir metais, ligas, materiais condutores e até mesmo materiais não condutores (utilizando polarização de alta frequência) em um substrato. O filme depositado por deposição iônica pode ser metálico, multiliga ou composto, podendo ser depositado em camada única ou em camadas compostas; também pode ser depositado em gradiente ou em nano-multicamadas. Utilizando diferentes materiais de membrana, diferentes gases de reação e diferentes métodos e parâmetros de processo, é possível obter revestimentos superficiais com alta resistência ao desgaste, revestimentos densos e quimicamente estáveis com alta resistência à corrosão, camadas de lubrificação sólida, camadas decorativas de diversas cores, bem como revestimentos funcionais especiais exigidos em eletrônica, óptica, ciências da energia e outras áreas. A tecnologia e os produtos de deposição iônica têm sido amplamente utilizados.
–Este artigo foi publicado porfabricante de máquinas de revestimento a vácuoGuangdongZhenhua
Data da publicação: 12 de janeiro de 2024