③ コーティングの品質が高い イオン衝撃により膜の密度が向上し、膜の組織構造が改善され、膜層の均一性が良好になり、メッキ組織が緻密になり、ピンホールや気泡が少なくなり、膜層の品質が向上します。
④蒸着速度が高く、成膜速度が速く、30μmの厚い膜を作製できます。
⑤ コーティングに適用可能な基材および膜材料は比較的広く、金属化合物、非金属材料（鋼、非鉄金属、石英、セラミックス、プラスチックなど）の金属または非金属表面めっきに適用できます。コーティング表面には、プラズマの活性が化合物の合成温度を低下させるため、イオンプレーティングは様々な超硬質化合物膜のめっきを容易にします。
イオンプレーティングは上記の特性を備えているため、その用途は非常に広範囲にわたります。イオンプレーティング技術は、金属、合金、導電性材料、さらには非導電性材料（高周波バイアスを使用）を基板上にコーティングするために使用できます。イオンプレーティングで堆積される膜は、金属膜、多合金膜、複合膜、単層めっき、複合めっき、勾配めっき、ナノ多層めっきが可能です。異なる膜材料、異なる反応ガス、異なるプロセス方法とパラメータを使用することで、表面強化された硬質耐摩耗性めっき、緻密で化学的に安定した耐腐食性めっき、固体潤滑層、さまざまな色の装飾ロック層、さらには電子工学、光学、エネルギー科学などの特殊機能めっきに使用できます。イオンプレーティング技術とイオンプレーティング製品は広く使用されています。
–この記事は真空コーティング機メーカー広東振華
投稿日時: 2024年1月12日