سیستم پوششدهی در خلاء، فناوریای است که برای اعمال یک لایه نازک یا پوشش روی سطح در محیط خلاء استفاده میشود. این فرآیند، پوششی با کیفیت بالا، یکنواخت و بادوام را تضمین میکند که در صنایع مختلفی مانند الکترونیک، اپتیک، خودرو و هوافضا بسیار مهم است. انواع مختلفی از سیستمهای پوششدهی در خلاء وجود دارد که هر کدام برای کاربردهای خاصی مناسب هستند. در اینجا چند نوع اصلی از آنها آورده شده است:
رسوب فیزیکی بخار (PVD): این فرآیند شامل انتقال فیزیکی ماده از یک منبع جامد یا مایع به زیرلایه است. روشهای رایج عبارتند از:
پاشش (Sputtering): ماده از یک هدف خارج شده و روی زیرلایه رسوب میکند.
تبخیر: ماده تا زمانی که تبخیر شود گرم میشود و سپس روی زیرلایه متراکم میشود.
رسوب بخار شیمیایی (CVD): این فرآیند شامل یک واکنش شیمیایی بین یک پیشساز فاز بخار و سطح زیرلایه است که یک لایه جامد تشکیل میدهد. انواع آن عبارتند از:
CVD تقویتشده با پلاسما (PECVD): از پلاسما برای تقویت واکنشهای شیمیایی استفاده میکند.
CVD فلزی-آلی (MOCVD): از ترکیبات فلزی-آلی به عنوان پیشساز استفاده میکند.
رسوب لایه اتمی (ALD): فرآیندی بسیار کنترلشده که لایههای اتمی را یکییکی رسوب میدهد و ضخامت و ترکیب دقیقی را تضمین میکند.
مگنترون اسپاترینگ: نوعی PVD که در آن از میدانهای مغناطیسی برای محدود کردن پلاسما استفاده میشود و راندمان فرآیند اسپاترینگ را افزایش میدهد.
رسوبدهی با پرتو یونی: از پرتوهای یونی برای پاشش مواد از یک هدف و رسوب آن روی زیرلایه استفاده میکند.
کاربردها:
نیمهرساناها: پوششهای ریزتراشهها و قطعات الکترونیکی
اپتیک: پوششهای ضد انعکاس، آینهها و لنزها.
خودرو: پوشش قطعات موتور و پرداختهای تزئینی.
هوافضا: پوششهای سد حرارتی و لایههای محافظ.
مزایا:
پوششهای یکنواخت: ضخامت و ترکیب یکنواختی را در سراسر زیرلایه ایجاد میکند.
چسبندگی بالا: پوششها به خوبی به زیرلایه میچسبند و دوام را افزایش میدهند.
خلوص و کیفیت: محیط خلاء آلودگی را کاهش میدهد و در نتیجه پوششهایی با خلوص بالا ایجاد میشود.
–این مقاله توسط منتشر شده استتولید کننده دستگاه پوشش دهی در خلاءگوانگدونگ ژنهوا
زمان ارسال: 9 ژوئیه 2024