ভ্যাকুয়াম আবরণ ব্যবস্থা হল এমন একটি প্রযুক্তি যা ভ্যাকুয়াম পরিবেশে কোনও পৃষ্ঠে একটি পাতলা ফিল্ম বা আবরণ প্রয়োগ করতে ব্যবহৃত হয়। এই প্রক্রিয়াটি একটি উচ্চমানের, অভিন্ন এবং টেকসই আবরণ নিশ্চিত করে, যা ইলেকট্রনিক্স, অপটিক্স, অটোমোটিভ এবং মহাকাশের মতো বিভিন্ন শিল্পে অত্যন্ত গুরুত্বপূর্ণ। বিভিন্ন ধরণের ভ্যাকুয়াম আবরণ ব্যবস্থা রয়েছে, প্রতিটি নির্দিষ্ট অ্যাপ্লিকেশনের জন্য উপযুক্ত। এখানে কয়েকটি মূল প্রকারের উল্লেখ করা হল:
ভৌত বাষ্প জমা (PVD): এই প্রক্রিয়ায় কঠিন বা তরল উৎস থেকে সাবস্ট্রেটে পদার্থের ভৌত স্থানান্তর জড়িত। সাধারণ পদ্ধতিগুলির মধ্যে রয়েছে:
থুতু ফেলা: লক্ষ্যবস্তু থেকে উপাদান বের করে সাবস্ট্রেটের উপর জমা করা হয়।
বাষ্পীভবন: উপাদানটি বাষ্পীভূত না হওয়া পর্যন্ত উত্তপ্ত করা হয় এবং তারপর স্তরের উপর ঘনীভূত হয়।
রাসায়নিক বাষ্প জমা (CVD): এই প্রক্রিয়ায় বাষ্প-পর্যায়ের পূর্বসূরী এবং স্তর পৃষ্ঠের মধ্যে একটি রাসায়নিক বিক্রিয়া জড়িত থাকে, যা একটি কঠিন স্তর তৈরি করে। এর বিভিন্ন রূপ হল:
প্লাজমা-বর্ধিত সিভিডি (PECVD): রাসায়নিক বিক্রিয়া বৃদ্ধির জন্য প্লাজমা ব্যবহার করে।
ধাতব-জৈব সিভিডি (MOCVD): ধাতব-জৈব যৌগগুলিকে পূর্বসূরী হিসেবে ব্যবহার করে।
পারমাণবিক স্তর জমা (ALD): একটি অত্যন্ত নিয়ন্ত্রিত প্রক্রিয়া যা পরমাণু স্তরগুলিকে একের পর এক জমা করে, সুনির্দিষ্ট বেধ এবং গঠন নিশ্চিত করে।
ম্যাগনেট্রন স্পুটারিং: এক ধরণের পিভিডি যেখানে চৌম্বক ক্ষেত্র ব্যবহার করে প্লাজমা আটকে রাখা হয়, যা স্পুটারিং প্রক্রিয়ার দক্ষতা বৃদ্ধি করে।
আয়ন রশ্মি জমা: লক্ষ্যবস্তু থেকে উপাদান বের করে সাবস্ট্রেটে জমা করার জন্য আয়ন রশ্মি ব্যবহার করা হয়।
অ্যাপ্লিকেশন:
সেমিকন্ডাক্টর: মাইক্রোচিপ এবং ইলেকট্রনিক উপাদানের জন্য আবরণ।
আলোকবিদ্যা: প্রতিফলন-প্রতিফলন-প্রতিফলিত আবরণ, আয়না এবং লেন্স।
মোটরগাড়ি: ইঞ্জিনের উপাদান এবং সাজসজ্জার জন্য আবরণ।
মহাকাশ: তাপীয় বাধা আবরণ এবং প্রতিরক্ষামূলক স্তর।
সুবিধা:
অভিন্ন আবরণ: সাবস্ট্রেট জুড়ে সামঞ্জস্যপূর্ণ বেধ এবং গঠন অর্জন করে।
উচ্চ আনুগত্য: আবরণগুলি সাবস্ট্রেটের সাথে ভালোভাবে লেগে থাকে, যা স্থায়িত্ব বাড়ায়।
বিশুদ্ধতা এবং গুণমান: ভ্যাকুয়াম পরিবেশ দূষণ কমায়, যার ফলে উচ্চ-বিশুদ্ধতাযুক্ত আবরণ তৈরি হয়।
–এই প্রবন্ধটি প্রকাশিত হয়েছেভ্যাকুয়াম লেপ মেশিন প্রস্তুতকারকগুয়াংডং জেনহুয়া
পোস্টের সময়: জুলাই-০৯-২০২৪