ZCL0608

စက်ကိရိယာသည် magnetron sputtering နှင့် resistance evaporation နည်းပညာကို ပေါင်းစပ်ထားပြီး မတူညီသော အလွှာအမျိုးမျိုးကို coating အတွက် ဖြေရှင်းချက် ပေးပါသည်။
စမ်းသပ်မှုဆိုင်ရာ အပေါ်ယံပစ္စည်းကိရိယာများကို တက္ကသိုလ်များနှင့် သိပ္ပံသုတေသနအဖွဲ့များတွင် အဓိကအသုံးပြုကြပြီး စမ်းသပ်မှုလိုအပ်ချက်အမျိုးမျိုးကို ဖြည့်ဆည်းပေးနိုင်သည်။အမျိုးမျိုးသော နယ်ပယ်များတွင် သိပ္ပံဆိုင်ရာ သုတေသနနှင့် ဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်မှုတို့ကို ပြည့်မီရန် လိုက်လျောညီထွေဖြစ်အောင် ပြင်ဆင်သတ်မှတ်နိုင်သည့် အမျိုးမျိုးသော ဖွဲ့စည်းပုံဆိုင်ရာ ပစ်မှတ်များကို စက်ပစ္စည်းများအတွက် သီးသန့်ထားရှိပါသည်။Magnetron sputtering system, cathode arc system, electron beam evaporation system, resistance evaporation system, CVD, PECVD, ion source, bias system, heating system, three-dimensional fixture စသည်တို့ကို ရွေးချယ်နိုင်ပါသည်။ဖောက်သည်များသည် ၎င်းတို့၏ မတူညီသော လိုအပ်ချက်အလိုက် ရွေးချယ်နိုင်သည်။
စက်ပစ္စည်းများသည် လှပသောအသွင်အပြင်၊ ကျစ်လစ်သောဖွဲ့စည်းပုံ၊ သေးငယ်သောကြမ်းပြင်ဧရိယာ၊ မြင့်မားသောအလိုအလျောက်စနစ်၊ ရိုးရှင်းပြီး လိုက်လျောညီထွေရှိသောလည်ပတ်မှု၊ တည်ငြိမ်သောစွမ်းဆောင်ရည်နှင့် ပြုပြင်ထိန်းသိမ်းရလွယ်ကူသောလက္ခဏာများရှိသည်။
အဆိုပါပစ္စည်းများကို ပလပ်စတစ်၊ သံမဏိ၊ လျှပ်စစ်ပလပ်စတစ်ပစ္စည်း/ ပလပ်စတစ်အစိတ်အပိုင်းများ၊ ဖန်၊ ကြွေထည်များနှင့် အခြားပစ္စည်းများတွင် အသုံးချနိုင်သည်။တိုက်တေနီယမ်၊ ခရိုမီယမ်၊ ငွေ၊ ကြေးနီ၊ အလူမီနီယမ် သို့မဟုတ် သတ္တုဒြပ်ပေါင်းရုပ်ရှင်များဖြစ်သည့် TiN / TiCN / TiC / TiO2 / TiAlN / CrN / ZrN / CrC ကဲ့သို့သော ရိုးရိုးသတ္တုအလွှာများကို ပြင်ဆင်နိုင်သည်။