กระบวนการระเหยสูญญากาศ

กระบวนการสะสมไอสูญญากาศโดยทั่วไปประกอบด้วยการทำความสะอาดพื้นผิวของวัสดุพิมพ์ การเตรียมการก่อนการเคลือบ การสะสมไอ การโหลด การบำบัดหลังการเคลือบ การทดสอบ และผลิตภัณฑ์สำเร็จรูป

(1) การทำความสะอาดพื้นผิวของวัสดุเคลือบ ผนังห้องสูญญากาศ กรอบวัสดุเคลือบ และน้ำมันบนพื้นผิวอื่นๆ สนิม วัสดุชุบที่เหลือจะระเหยได้ง่ายในสูญญากาศ ซึ่งส่งผลโดยตรงต่อความบริสุทธิ์ของชั้นฟิล์มและแรงยึดเกาะ ต้องทำความสะอาดก่อนการชุบ
(2) การเตรียมการก่อนการเคลือบ การเคลือบสูญญากาศที่ว่างเปล่าในระดับสูญญากาศที่เหมาะสม พื้นผิวและวัสดุเคลือบสำหรับการบำบัดเบื้องต้น การให้ความร้อนพื้นผิว จุดประสงค์คือเพื่อขจัดความชื้นและเพิ่มแรงยึดเกาะของฐานเมมเบรน การให้ความร้อนพื้นผิวภายใต้สูญญากาศสูงสามารถดูดซับก๊าซที่ดูดซับบนพื้นผิวของพื้นผิว จากนั้นจึงระบายก๊าซออกจากห้องสูญญากาศโดยปั๊มสูญญากาศ ซึ่งเอื้อต่อการปรับปรุงระดับสูญญากาศของห้องเคลือบ ความบริสุทธิ์ของชั้นฟิล์ม และแรงยึดเกาะของฐานฟิล์ม หลังจากถึงระดับสูญญากาศที่กำหนด แหล่งระเหยแรกที่มีกำลังไฟฟ้าต่ำกว่า อุ่นฟิล์มล่วงหน้าหรือละลายล่วงหน้า เพื่อป้องกันการระเหยไปที่พื้นผิว ให้ปิดแหล่งระเหยและวัสดุต้นทางด้วยแผ่นกั้น จากนั้นป้อนกำลังไฟฟ้าที่สูงขึ้น วัสดุเคลือบจะได้รับความร้อนอย่างรวดเร็วจนถึงอุณหภูมิการระเหย ระเหย จากนั้นจึงถอดแผ่นกั้นออก
(3) การระเหย นอกจากขั้นตอนการระเหยเพื่อเลือกอุณหภูมิพื้นผิวที่เหมาะสมแล้ว อุณหภูมิการระเหยของวัสดุชุบนอกการสะสมแรงดันอากาศยังเป็นพารามิเตอร์ที่สำคัญมากอีกด้วย การสะสมแรงดันก๊าซซึ่งเป็นสุญญากาศของห้องเคลือบ จะกำหนดช่วงอิสระเฉลี่ยของโมเลกุลก๊าซที่เคลื่อนที่ในพื้นที่ระเหย และระยะการระเหยที่แน่นอนภายใต้อะตอมไอและก๊าซที่เหลือ และจำนวนการชนกันระหว่างอะตอมไอ
(4) การขนถ่าย หลังจากความหนาของชั้นฟิล์มเป็นไปตามข้อกำหนดแล้ว ให้ปิดแหล่งระเหยด้วยแผ่นกั้นและหยุดการให้ความร้อน แต่ไม่ต้องนำอากาศเข้าทันที จำเป็นต้องทำการระบายความร้อนต่อไปภายใต้สภาวะสุญญากาศเป็นระยะเวลาหนึ่งเพื่อให้เย็นลง เพื่อป้องกันการชุบ วัสดุชุบที่เหลือและความต้านทาน แหล่งระเหย และอื่นๆ ที่ออกซิไดซ์ จากนั้นหยุดสูบลม จากนั้นจึงเปิดห้องสุญญากาศเพื่อนำสารตั้งต้นออก

–บทความนี้เผยแพร่โดยผู้ผลิตเครื่องเคลือบสูญญากาศกว่างตงเจิ้นหัว