Het vacuümdampafzettingsproces omvat over het algemeen het reinigen van het substraatoppervlak, de voorbereiding vóór het coaten, de dampafzetting, het laden, de nabewerking na het coaten, het testen en de productie van de eindproducten.
(1) Reiniging van het substraatoppervlak. De wanden van de vacuümkamer, het substraatframe en andere oppervlakken zijn vaak vervuild met olie, roest en resterend galvaniseermateriaal. Dit verdampt gemakkelijk in een vacuüm en heeft direct invloed op de zuiverheid van de filmlaag en de hechtsterkte. Daarom moeten deze oppervlakken vóór het galvaniseren gereinigd worden.
(2) Voorbereiding vóór het coaten. Het substraat en de coatingmaterialen worden voorbehandeld in een vacuümkamer met de juiste vacuümgraad. Het substraat wordt verwarmd om vocht te verwijderen en de hechtsterkte van de membraanbasis te verbeteren. Door het substraat onder hoog vacuüm te verwarmen, kan het geadsorbeerde gas van het oppervlak van het substraat worden verwijderd. Dit gas wordt vervolgens met een vacuümpomp uit de vacuümkamer afgevoerd, wat de vacuümgraad van de coatingkamer, de zuiverheid van de filmlaag en de hechtsterkte van de filmbasis ten goede komt. Nadat een bepaalde vacuümgraad is bereikt, wordt de film voorverwarmd of voorgesmolten met een verdampingsbron met een laag vermogen. Om verdamping op het substraat te voorkomen, worden de verdampingsbron en het bronmateriaal afgedekt met een schot. Vervolgens wordt een verdampingsbron met een hoger vermogen ingeschakeld, waardoor het coatingmateriaal snel tot de verdampingstemperatuur wordt verwarmd en verdampt. Daarna wordt het schot verwijderd.
(3) Verdamping. Naast de verdampingsfase, waarbij de juiste substraattemperatuur moet worden gekozen, is de verdampingstemperatuur van het galvaniseermateriaal buiten de afzettingsluchtdruk ook een zeer belangrijke parameter. De afzettingsgasdruk, oftewel het vacuüm in de coatingruimte, bepaalt de gemiddelde vrije bewegingsruimte van gasmoleculen in de verdampingsruimte en de verdampingsafstand van de damp en de restgasatomen, evenals het aantal botsingen tussen de dampatomen.
(4) Ontladen. Nadat de dikte van de filmlaag aan de vereisten voldoet, moet de verdampingsbron worden afgedekt met een schot en moet de verwarming worden gestopt. De luchttoevoer moet echter niet onmiddellijk worden gestart. Het is noodzakelijk om de verdampingsbron gedurende een bepaalde tijd onder vacuüm te laten afkoelen om oxidatie van resterend verdampingsmateriaal, weerstand, verdampingsbron, enzovoort te voorkomen. Vervolgens moet het pompen worden gestopt, waarna de vacuümkamer weer wordt geopend om het substraat te verwijderen.
–Dit artikel is gepubliceerd doorfabrikant van vacuümcoatingmachinesGuangdong Zhenhua
Geplaatst op: 27 september 2024