③ คุณภาพสูงของการเคลือบ เนื่องจากการทิ้งไอออนสามารถปรับปรุงความหนาแน่นของเมมเบรนได้ ทำให้โครงสร้างการจัดระเบียบของเมมเบรนดีขึ้น ทำให้ความสม่ำเสมอของชั้นเมมเบรนดีขึ้น การจัดระเบียบการชุบหนาแน่น มีรูพรุนและฟองอากาศน้อยลง จึงช่วยปรับปรุงคุณภาพของชั้นเมมเบรน
④ อัตราการสะสมสูง ความเร็วในการสร้างฟิล์มรวดเร็ว สามารถเตรียมฟิล์มที่มีความหนา 30 ไมโครเมตรได้
⑤ วัสดุพื้นผิวและวัสดุฟิล์มที่ใช้ได้กับการเคลือบนั้นค่อนข้างกว้าง ใช้ได้กับการชุบโลหะหรือพื้นผิวที่ไม่ใช่โลหะของสารประกอบโลหะ วัสดุที่ไม่ใช่โลหะ เช่น เหล็ก โลหะที่ไม่ใช่เหล็ก ควอตซ์ เซรามิก พลาสติก และวัสดุอื่นๆ บนพื้นผิวของการเคลือบ เนื่องจากกิจกรรมของพลาสม่าเอื้อต่อการลดอุณหภูมิการสังเคราะห์ของสารประกอบ การชุบไอออนจึงทำให้การชุบฟิล์มสารประกอบที่มีความแข็งเป็นพิเศษต่างๆ ง่ายขึ้น
เนื่องจากการชุบไอออนมีลักษณะดังกล่าวข้างต้น จึงมีขอบเขตการใช้งานที่กว้างมาก เทคโนโลยีการชุบไอออนสามารถใช้เคลือบโลหะ โลหะผสม วัสดุที่เป็นสื่อไฟฟ้า และแม้แต่วัสดุที่ไม่เป็นสื่อไฟฟ้า (โดยใช้อคติความถี่สูง) บนพื้นผิว การชุบไอออนของฟิล์มสามารถเป็นฟิล์มโลหะ ฟิล์มโลหะผสมหลายชนิด ฟิล์มผสม สามารถชุบชั้นเดียว ชุบแบบคอมโพสิตก็ได้ ชุบแบบไล่ระดับ และชุบแบบนาโนหลายชั้นก็ได้ การใช้วัสดุเมมเบรนที่แตกต่างกัน ก๊าซปฏิกิริยาที่แตกต่างกัน และวิธีการและพารามิเตอร์ของกระบวนการที่แตกต่างกัน ทำให้คุณได้รับการเสริมความแข็งแกร่งให้กับพื้นผิวด้วยการชุบที่ทนทานต่อการสึกหรอ การชุบที่ทนทานต่อการกัดกร่อนที่มีความหนาแน่นและเสถียรทางเคมี ชั้นหล่อลื่นที่เป็นของแข็ง ชั้นล็อคตกแต่งที่มีสีต่างๆ รวมถึงการชุบฟังก์ชันพิเศษอื่นๆ ที่จำเป็น เทคโนโลยีการชุบไอออนและผลิตภัณฑ์การชุบไอออนได้รับการใช้กันอย่างแพร่หลาย
–บทความนี้เผยแพร่โดยผู้ผลิตเครื่องเคลือบสูญญากาศกว่างตงเจิ้นหัว
เวลาโพสต์ : 12 ม.ค. 2567