Добро пожаловать в компанию Guangdong Zhenhua Technology Co., Ltd.
Новости отрасли
-
станок для производства зеркал с вакуумным напылением из алюминия и серебра
Установка для вакуумного нанесения алюминиево-серебряного покрытия на зеркала произвела революцию в зеркальной промышленности благодаря передовым технологиям и высокоточной инженерии. Эта современная машина предназначена для нанесения тонкого слоя алюминиево-серебряного покрытия на поверхность стекла, создавая высококачественные...Читать далее -
Оптическая вакуумная установка для нанесения покрытий
Оптический вакуумный металлизатор — это передовая технология, совершившая революцию в индустрии нанесения поверхностных покрытий. Эта современная машина использует процесс, называемый оптической вакуумной металлизацией, для нанесения тонкого слоя металла на различные подложки, создавая высокоотражающее и долговечное покрытие...Читать далее -
Плазменно-усиленное химическое осаждение из паровой фазы. Глава 2.
Большинство химических элементов можно испарять, соединяясь с химическими группами, например, Si реагирует с H, образуя SiH4, а Al соединяется с CH3, образуя Al(CH3). В процессе термического CVD указанные газы поглощают определенное количество тепловой энергии, проходя через нагретую подложку и образуя...Читать далее -
Плазменно-усиленное химическое осаждение из паровой фазы. Глава 1.
Химическое осаждение из паровой фазы (CVD). Как следует из названия, это технология, использующая газообразные прекурсоры для получения твердых пленок посредством атомных и межмолекулярных химических реакций. В отличие от PVD, процесс CVD в основном проводится в условиях более высокого давления (более низкого вакуума), с...Читать далее -
Элементы процесса и механизмы действия, влияющие на качество тонкопленочных устройств (Часть 2)
3. Влияние температуры субстрата. Температура субстрата является одним из важных условий для роста мембраны. Она обеспечивает дополнительную энергетическую поддержку атомам или молекулам мембраны и в основном влияет на структуру мембраны, коэффициент агглютинации, коэффициент расширения и агрегацию...Читать далее -
Факторы и механизмы, влияющие на качество тонкопленочных устройств (Часть 1)
Изготовление оптических тонкопленочных устройств осуществляется в вакуумной камере, а рост пленочного слоя представляет собой микроскопический процесс. Однако в настоящее время макроскопические процессы, которые можно непосредственно контролировать, — это некоторые макроскопические факторы, имеющие косвенную связь с качеством...Читать далее -
Введение в историю развития технологии испарения.
Процесс нагревания твердых материалов в условиях высокого вакуума для сублимации или испарения и последующего нанесения их на определенную подложку с целью получения тонкой пленки известен как вакуумное напыление (или напыление методом испарения). История получения тонких пленок методом вакуумного напыления...Читать далее -
Введение в ITO-покрытие
Оксид индия-олова (Indium Tin Oxide, также известный как ITO) — это широкозонный, сильно легированный полупроводниковый материал n-типа, обладающий высокой светопропускаемостью в видимом диапазоне и низким сопротивлением, поэтому широко используется в солнечных батареях, плоских дисплеях, электрохромных окнах, неорганических и органических материалах...Читать далее -
Лабораторная вакуумная центрифужная установка для нанесения покрытий.
Лабораторные вакуумные центрифуги являются важными инструментами в области нанесения тонких пленок и модификации поверхности. Это современное оборудование предназначено для точного и равномерного нанесения тонких пленок из различных материалов на подложки. Процесс включает нанесение жидкого раствора или суспензии...Читать далее -
Режим осаждения с помощью ионного пучка и выбор энергии при его применении.
Существует два основных режима осаждения с помощью ионного пучка: динамический гибридный и статический гибридный. В первом случае пленка в процессе роста постоянно подвергается бомбардировке ионами определенной энергии и силы тока; во втором случае пленка предварительно осаждается на поверхности...Читать далее -
Технология ионно-лучевого осаждения
① Технология ионно-лучевого осаждения характеризуется сильной адгезией между пленкой и подложкой, благодаря чему пленочный слой очень прочный. Эксперименты показали, что адгезия при ионно-лучевом осаждении в несколько раз, вплоть до сотен, выше, чем при термическом осаждении из паровой фазы...Читать далее -
Вакуумное ионное покрытие
Вакуумное ионное напыление (также называемое ионным осаждением) было предложено в США в 1963 году компанией Somdia DM Mattox, а в 1970-х годах произошло стремительное развитие новой технологии обработки поверхностей. Она подразумевает использование источника испарения или мишени для распыления в вакуумной атмосфере, благодаря чему образуется пленка...Читать далее -
Способ удаления пленочного слоя с покрытого стекла
Стекло с покрытием подразделяется на стекло с покрытием, нанесенным методом испарения, методом магнетронного распыления и методом осаждения из паровой фазы в потоке. Поскольку метод получения пленки различен, метод ее удаления также различен. Предложение 1: Использование соляной кислоты и цинкового порошка для полировки и шлифовки...Читать далее -
Роль покрытий режущих инструментов — Глава 2
Даже при очень высоких температурах резания срок службы режущего инструмента можно продлить за счет нанесения покрытия, что значительно снижает затраты на обработку. Кроме того, покрытие режущего инструмента может уменьшить потребность в смазочных жидкостях. Это не только снижает затраты на материалы, но и способствует защите окружающей среды...Читать далее -
Роль покрытий режущих инструментов — Глава 1
Покрытия для режущих инструментов улучшают фрикционные и износостойкие свойства инструментов, поэтому они играют важную роль в процессах резки. В течение многих лет поставщики технологий обработки поверхностей разрабатывали индивидуальные решения по нанесению покрытий для повышения износостойкости режущих инструментов и эффективности обработки...Читать далее
