Добро пожаловать в компанию Guangdong Zhenhua Technology Co., Ltd.
Новости отрасли
-
Какие существуют классификации оборудования для вакуумного напыления?
Технология вакуумного напыления — это технология нанесения тонких пленок на поверхность подложки в вакуумной среде, широко используемая в электронике, оптике, упаковке, декорировании и других областях. Оборудование для вакуумного напыления можно разделить на следующие основные типы...Читать далее -
Как выбрать качественную марку оборудования для вакуумного напыления?
Вакуумное напыление — это оборудование для модификации поверхности с использованием вакуумной технологии, которое в основном включает вакуумную камеру, вакуумную систему, систему нагрева, напыляемый материал и т. д. В настоящее время вакуумное напыление широко используется в автомобильной промышленности, производстве мобильных телефонов, оптики и т. д.Читать далее -
Введение в технологию вакуумного ионного нанесения покрытий.
1. Принцип вакуумной ионной технологии нанесения покрытий. Используя технологию вакуумного дугового разряда в вакуумной камере, на поверхности катодного материала генерируется дуговой разряд, вызывающий образование атомов и ионов на катодном материале. Под действием электрического поля пучки атомов и ионов бомбардируют...Читать далее -
Технические характеристики установки для напыления покрытий
Вакуумное магнетронное распыление особенно подходит для реактивного осаждения покрытий. Фактически, этот процесс позволяет осаждать тонкие пленки любых оксидных, карбидных и нитридных материалов. Кроме того, этот процесс также особенно подходит для осаждения многослойных пленочных структур, включая оптические...Читать далее -
Введение в технологию DLC
«DLC — это аббревиатура от «алмазоподобный углерод» (DIAMOND-LIKE CARBON), вещества, состоящего из элементов углерода, по своей природе похожего на алмаз и имеющего структуру атомов графита. Алмазоподобный углерод (DLC) — это аморфная пленка, которая привлекла внимание трибологического сообщества…»Читать далее -
Свойства и применение алмазных пленок. Глава 2.
Электрические свойства и применение алмазных пленок. Алмаз также обладает запрещенной зоной, высокой подвижностью носителей заряда, хорошей теплопроводностью, высокой скоростью насыщения дрейфа электронов, малой диэлектрической постоянной, высоким напряжением пробоя и подвижностью электрон-дырок и т. д. Его напряжение пробоя составляет два или...Читать далее -
Свойства и применение алмазных пленок. Глава 1.
Алмаз, образованный прочными химическими связями, обладает особыми механическими и упругими свойствами. Твердость, плотность и теплопроводность алмаза являются самыми высокими среди известных материалов. Алмаз также обладает самым высоким модулем упругости среди всех материалов. Коэффициент трения алмаза...Читать далее -
Типы солнечных батарей, глава 2
Арсенид галлия (GaAs) III ~ V обеспечивает эффективность преобразования энергии в батареях до 28%. Материал GaAs обладает идеальной оптической шириной запрещенной зоны, а также высокой эффективностью поглощения, высокой устойчивостью к облучению и нечувствительностью к нагреву, что делает его подходящим для производства высокоэффективных однопереходных батарей...Читать далее -
Типы солнечных батарей, глава 1
Разработано третье поколение солнечных элементов, первое поколение — это монокристаллические кремниевые солнечные элементы, второе — аморфные и поликристаллические кремниевые солнечные элементы, а третье — медно-стальные-галлий-селенидные (CIGS) солнечные элементы, представляющие собой...Читать далее -
Технологические способы повышения механической прочности пленочного слоя
Механические свойства мембранного слоя зависят от адгезии, напряжения, плотности агрегации и т. д. Из взаимосвязи между материалом мембранного слоя и технологическими факторами видно, что для повышения механической прочности мембранного слоя следует сосредоточиться на…Читать далее -
Химическое осаждение из паровой фазы
Эпитаксиальный рост, часто также называемый эпитаксией, является одним из важнейших процессов в производстве полупроводниковых материалов и устройств. Так называемый эпитаксиальный рост — это процесс выращивания слоя монокристаллической подложки в определенных условиях, представляющий собой процесс получения монокристаллической пленки...Читать далее -
Виды технологии CVD
В общих чертах, CVD можно условно разделить на два типа: первый — это осаждение монокристаллического эпитаксиального слоя на подложку из паровой фазы, что является узким определением CVD; второй — это осаждение тонких пленок на подложку, включая многокомпонентные и аморфные пленки. В соответствии с...Читать далее -
Спектры пропускания и отражения, а также цвет оптических тонких пленок. Глава 2.
Из этого мы собираемся прояснить: (1) тонкопленочные устройства, спектры пропускания, отражения и цвет имеют соответствующую взаимосвязь, то есть спектр цвета; напротив, эта взаимосвязь «не является единственной», проявляется как многоспектральный цвет. Поэтому пленка...Читать далее -
Спектры пропускания и отражения, а также цвет оптических тонких пленок. Глава 1.
Спектры пропускания и отражения, а также цвета оптических тонких пленок — это две характеристики тонкопленочных устройств, существующие одновременно. 1. Спектр пропускания и отражения — это соотношение между коэффициентами отражения и пропускания оптических тонкопленочных устройств в зависимости от длины волны. Это...Читать далее -
Установка для вакуумного напыления тонких пленок методом PVD (оптическое PVD-покрытие)
Вакуумная установка для нанесения тонких пленок методом испарения (PVD) на мобильные устройства предназначена для нанесения тонких пленок на мобильные устройства с использованием процесса физического осаждения из паровой фазы (PVD). Этот процесс включает создание вакуумной среды внутри камеры нанесения покрытия, где происходит испарение твердых материалов, а затем их осаждение...Читать далее
