CFM1916

(1) Стойка для заготовок имеет цилиндрическую конструкцию с большой площадью покрытия. Емкость загрузки продукта в два раза больше, чем у оборудования для электронно-лучевого испарения той же спецификации. Стойка для заготовок имеет конструкцию вращения и вращения, которая может адаптироваться к заготовкам различной формы и более широко используется.
(2)Используя среднечастотную магнетронную цилиндрическую мишень распыления и вспомогательную систему источника ионов, пленка покрытия компактна, имеет высокий и стабильный показатель преломления, сильную адгезию и нелегко адсорбирует молекулы водяного пара. В различных средах пленка сохраняет более стабильные оптические характеристики, чем пленка, нанесенная традиционным оборудованием для электронно-лучевого испарения.
(3) Оснащен системой контроля кристаллического контроля для точного контроля толщины пленки, процесс имеет высокую стабильность и хорошую повторяемость. Замкнутая система автоматического управления SPEEDFLO может эффективно улучшить скорость осаждения SiO2.
(4) Конструкция термостатического приспособления позволяет эффективно контролировать температуру продукта и может адаптироваться к сверхтонким изделиям из ПЭТ и ПК.