Нимгэн хальсыг хуримтлуулах салбарт шүрших технологи нь янз бүрийн үйлдвэрүүдэд нарийн, жигд нимгэн хальсыг бий болгох өргөн хэрэглэгддэг арга болжээ. Эдгээр технологийн олон талт, найдвартай байдал нь тэдгээрийн хэрэглээг өргөжүүлж, инженер, судлаачдад тусгай зориулалтын нимгэн хальсыг тохируулах боломжийг олгодог. Энэхүү блог нийтлэлд бид өнөө үед түгээмэл хэрэглэгдэж байгаа шүрших технологийн янз бүрийн төрлийг нарийвчлан авч үзэх ба тэдгээрийн өвөрмөц шинж чанар, ашиг тус, хэрэглээг тайлбарлах болно.
1. Тогтмол гүйдлийн шүрших
Тогтмол гүйдэл цацах нь нимгэн хальсыг буулгах хамгийн энгийн бөгөөд өргөн хэрэглэгддэг аргуудын нэг юм. Уг процесс нь бага даралттай хийн орчинд гэрэлтэх ялгадас үүсгэхийн тулд тогтмол гүйдлийн тэжээлийн эх үүсвэрийг ашиглах явдал юм. Плазмын эерэг ионууд зорилтот материалыг бөмбөгдөж, атомуудыг салгаж, субстрат дээр байрлуулна. Тогтмол гүйдлийн шүрших нь энгийн, хэмнэлттэй, шил, керамик, металл зэрэг төрөл бүрийн субстрат дээр өндөр чанартай нимгэн хальсыг буулгах чадвараараа алдартай.
DC цацалтын хэрэглээ:
- Хагас дамжуулагчийн үйлдвэрлэл
- Оптик бүрхүүл
- Нимгэн хальстай нарны эсүүд
2. Радио давтамж ба реактив цацалт
Радио давтамж (RF) цацах нь тогтмол гүйдлийн цацралтын RF-ийн хүчээр ажилладаг хувилбар юм. Энэ аргын хувьд зорилтот материалыг радио давтамжийн хүчээр үүсгэсэн ионуудаар бөмбөгддөг. RF талбар байгаа нь иончлолын процессыг сайжруулж, хальсны найрлагыг илүү нарийн хянах боломжийг олгодог. Харин реактив цацалт нь шүрших камерт азот эсвэл хүчилтөрөгч зэрэг реактив хий оруулахыг хэлнэ. Энэ нь материалын шинж чанарыг сайжруулсан исэл эсвэл нитрид зэрэг нэгдлүүдийн нимгэн хальс үүсгэх боломжийг олгодог.
RF ба реактив цацалтын хэрэглээ:
- Тусгалын эсрэг бүрхүүл
- Хагас дамжуулагч саад
- Оптик долгионы хөтлүүр
3. Магнетрон шүрших
Магнетрон цацах нь өндөр хурдтай тунадасны түгээмэл сонголт юм. Энэхүү технологи нь зорилтот гадаргуугийн ойролцоо соронзон орон ашиглан плазмын нягтралыг нэмэгдүүлж, иончлолын үр ашиг өндөр, нимгэн хальсыг маш сайн наалддаг. Нэмэлт соронзон орон нь плазмыг зорилтот түвшинд ойртуулж, ердийн шүрших аргуудтай харьцуулахад зорилтот хэрэглээг бууруулдаг. Магнетрон шүрших нь илүү өндөр хуримтлал, бүрэх шинж чанарыг баталгаажуулдаг бөгөөд энэ нь том хэмжээний үйлдвэрлэлд тохиромжтой.
Магнетрон цацах хэрэглээ:
- нимгэн хальсан транзистор
- Соронзон хадгалах хэрэгсэл
- Шил, металл дээр гоёл чимэглэлийн бүрээс
4. Ионы цацраг цацах
Ion beam sputtering (IBS) нь ион цацраг ашиглан зорилтот материалыг цацах олон талын арга юм. IBS нь өндөр хяналттай бөгөөд хальсны зузааныг нарийн хянах, материалын алдагдлыг багасгах боломжийг олгодог. Энэхүү технологи нь стехиометрийн хувьд зөв найрлагатай, бохирдлын бага түвшинг баталгаажуулдаг. Киноны маш сайн жигд байдал, зорилтот материалын өргөн сонголттойгоор IBS нь гөлгөр, согоггүй хальс үйлдвэрлэж, тусгай хэрэглээнд тохиромжтой болгодог.
Ион цацраг цацах хэрэглээ:
- Рентген толь
- Оптик шүүлтүүр
- Элэгдлийн эсрэг, үрэлт багатай бүрээстэй
Дүгнэж хэлэхэд
Шүрших технологийн ертөнц өргөн уудам бөгөөд олон талт бөгөөд инженер, судлаачдад нимгэн хальсыг буулгах олон боломжийг санал болгодог. Тодорхой шаардлагын дагуу нимгэн хальсыг оновчтой болгохын тулд шүрших янз бүрийн арга техник, тэдгээрийн хэрэглээний талаархи мэдлэг нь чухал юм. Энгийн тогтмол гүйдлийн цацалтаас эхлээд ионы цацрагийг нарийн цацах хүртэл арга тус бүр нь олон салбарт чухал үүрэг гүйцэтгэж, хамгийн сүүлийн үеийн технологийн дэвшилд хувь нэмэр оруулдаг.
Шүрших технологийн хамгийн сүүлийн үеийн хөгжлийг ойлгосноор бид нимгэн хальсны хүчийг орчин үеийн үйлдвэрлэлийн өсөн нэмэгдэж буй эрэлт хэрэгцээнд нийцүүлэн ашиглаж чадна. Электроник, оптоэлектроник эсвэл дэвшилтэт материалаас үл хамааран шүрших технологи нь бидний маргаашийн технологиудыг загварчлах, үйлдвэрлэх арга замыг үргэлжлүүлэн тодорхойлдог.
Шуудангийн цаг: 2023 оны 8-р сарын 15-ны хооронд