CFM1916

(1) Il rack portapezzi adotta un design cilindrico, con un'ampia area di rivestimento. La capacità di carico del prodotto è doppia rispetto a quella di un'apparecchiatura di evaporazione a fascio di elettroni con le stesse specifiche. Il rack portapezzi è progettato con una struttura a rotazione e rotazione, che può adattarsi a pezzi di varie forme ed è ampiamente utilizzato.
(2) Utilizzando il sistema di sputtering a bersaglio cilindrico magnetron a media frequenza e il sistema ausiliario con sorgente di ioni, il film di rivestimento è compatto, con un indice di rifrazione elevato e stabile, un'elevata adesione e non assorbe facilmente le molecole di vapore acqueo. In vari ambienti, il film mantiene prestazioni ottiche più stabili rispetto al film depositato con i tradizionali sistemi di evaporazione a fascio di elettroni.
(3) Dotato di un sistema di monitoraggio del controllo dei cristalli per controllare accuratamente lo spessore del film, il processo presenta un'elevata stabilità e una buona ripetibilità. Il sistema di controllo automatico a circuito chiuso SPEEDFLO può migliorare efficacemente la velocità di deposizione di SiO2.
(4) Il design del dispositivo termostatico può controllare efficacemente la temperatura del prodotto e può adattarsi a prodotti PET e PC ultrasottili.