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Nouvelles

  • Introduction du principe PVD

    Introduction du principe PVD

    Introduction : Dans le domaine de l'ingénierie des surfaces de pointe, le dépôt physique en phase vapeur (PVD) s'impose comme une méthode incontournable pour améliorer les performances et la durabilité de divers matériaux. Vous êtes-vous déjà demandé comment fonctionne cette technique de pointe ? Aujourd'hui, nous explorons les mécanismes complexes du PVD…
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  • Technologie de revêtement optique : effets visuels améliorés

    Dans le monde actuel, où tout va très vite et où le contenu visuel exerce une forte influence, la technologie des revêtements optiques joue un rôle important dans l'amélioration de la qualité des écrans. Des smartphones aux écrans de télévision, les revêtements optiques ont révolutionné notre façon de percevoir et de vivre le contenu visuel.
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  • Amélioration du revêtement par pulvérisation cathodique magnétronique grâce à une alimentation à décharge d'arc

    Amélioration du revêtement par pulvérisation cathodique magnétronique grâce à une alimentation à décharge d'arc

    Le dépôt par pulvérisation cathodique magnétronique est réalisé par décharge luminescente, avec une faible densité de courant de décharge et une faible densité de plasma dans la chambre de dépôt. De ce fait, cette technologie présente des inconvénients tels qu'une faible adhérence du film au substrat, un faible taux d'ionisation du métal et un faible taux de dépôt.
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  • Utilisation de la décharge RF

    Utilisation de la décharge RF

    1. Bénéfique pour la pulvérisation cathodique et le dépôt de films isolants. L'inversion rapide de la polarité des électrodes permet de pulvériser directement des cibles isolantes afin d'obtenir des films isolants. Si une source d'alimentation CC est utilisée pour la pulvérisation et le dépôt du film isolant, ce dernier bloquera les ions positifs provenant de l'interface.
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  • Caractéristiques techniques du revêtement par évaporation sous vide

    Caractéristiques techniques du revêtement par évaporation sous vide

    1. Le procédé de revêtement par évaporation sous vide comprend l'évaporation du matériau du film, le transport des atomes de vapeur sous vide poussé, ainsi que la nucléation et la croissance de ces atomes à la surface de la pièce. 2. Le degré de vide atteint lors du dépôt par évaporation sous vide est élevé, ce qui permet généralement d'obtenir des résultats similaires.
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  • Types de revêtements durs

    Types de revêtements durs

    Le nitrure de titane (TiN) est le premier revêtement dur utilisé dans les outils de coupe. Ses avantages incluent une résistance et une dureté élevées, ainsi qu'une excellente résistance à l'usure. Premier matériau de revêtement dur industrialisé et largement utilisé, il est couramment employé dans les outils et les moules revêtus. Le revêtement dur en TiN était initialement déposé à 1 000 °C…
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  • Caractéristiques de la modification de surface par plasma

    Caractéristiques de la modification de surface par plasma

    Le plasma à haute énergie peut bombarder et irradier les matériaux polymères, rompant leurs chaînes moléculaires, formant des groupes actifs, augmentant l'énergie de surface et générant une gravure. Le traitement de surface par plasma n'affecte pas la structure interne ni les performances du matériau, mais seulement de manière significative…
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  • Le procédé de revêtement ionique par petite source d'arc

    Le procédé de revêtement ionique par petite source d'arc

    Le procédé de revêtement ionique par arc cathodique est fondamentalement identique aux autres technologies de revêtement ; certaines opérations, telles que la mise en place des pièces et la mise sous vide, sont désormais supprimées. 1. Nettoyage des pièces par bombardement ionique : avant le revêtement, de l’argon est introduit dans la chambre de revêtement…
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  • Caractéristiques et méthodes de génération du flux d'électrons d'arc

    Caractéristiques et méthodes de génération du flux d'électrons d'arc

    1. Caractéristiques du flux d'électrons de la lumière d'arc : La densité du flux d'électrons, du flux d'ions et des atomes neutres de haute énergie dans le plasma d'arc généré par une décharge d'arc est bien supérieure à celle d'une décharge luminescente. On y observe une plus grande quantité d'ions gazeux et d'ions métalliques ionisés, d'atomes de haute énergie excités et de divers groupes actifs…
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  • Domaines d'application de la modification de surface par plasma

    Domaines d'application de la modification de surface par plasma

    1) La modification de surface par plasma concerne principalement certaines modifications du papier, des films organiques, des textiles et des fibres chimiques. L'utilisation du plasma pour la modification des textiles ne nécessite pas d'activateurs et le traitement ne détériore pas les propriétés intrinsèques des fibres.
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  • Application du revêtement ionique dans le domaine des couches minces optiques

    Application du revêtement ionique dans le domaine des couches minces optiques

    Les applications des couches minces optiques sont très vastes : verres, objectifs d’appareils photo, appareils photo de téléphones portables, écrans LCD pour téléphones portables, ordinateurs et téléviseurs, éclairage LED, dispositifs biométriques, vitrages à économie d’énergie pour automobiles et bâtiments, instruments médicaux, etc.
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  • films d'affichage d'informations et technologie de revêtement ionique

    films d'affichage d'informations et technologie de revêtement ionique

    1. Types de films utilisés dans l'affichage : Outre les films minces TFT-LCD et OLED, l'affichage comprend également des films d'électrodes et des films d'électrodes de pixels transparents. Le procédé de revêtement est essentiel à la fabrication des écrans TFT-LCD et OLED. Avec les progrès constants…
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  • Loi de croissance de la couche de revêtement par évaporation sous vide

    Loi de croissance de la couche de revêtement par évaporation sous vide

    Lors du revêtement par évaporation, la nucléation et la croissance de la couche de film constituent la base de diverses technologies de revêtement ionique. 1. Nucléation : Dans la technologie de revêtement par évaporation sous vide, après que les particules de la couche de film soient évaporées de la source d'évaporation sous forme d'atomes, elles se dirigent directement vers le substrat...
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  • Caractéristiques communes de la technologie de revêtement ionique à décharge luminescente améliorée

    Caractéristiques communes de la technologie de revêtement ionique à décharge luminescente améliorée

    1. La polarisation de la pièce est faible. En raison de l'ajout d'un dispositif visant à augmenter le taux d'ionisation, la densité de courant de décharge augmente et la tension de polarisation est réduite à 0,5 à 1 kV. La pulvérisation cathodique inverse causée par un bombardement excessif d'ions de haute énergie et les dommages causés à la surface de la pièce...
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  • Avantages des cibles cylindriques

    Avantages des cibles cylindriques

    1) Les cibles cylindriques présentent un taux d'utilisation supérieur aux cibles planes. Lors du processus de revêtement, qu'il s'agisse d'une cible de pulvérisation cylindrique magnétique rotative ou d'une cible tubulaire rotative, toute la surface du tube cible traverse continuellement la zone de pulvérisation générée devant...
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