films d'affichage d'informations et technologie de revêtement ionique

1. Type de film utilisé pour l'affichage d'informations

Outre les couches minces TFT-LCD et OLED, l'affichage comprend également des films d'électrodes de câblage et des films d'électrodes de pixels transparents. Le procédé de revêtement est essentiel à la fabrication des écrans TFT-LCD et OLED. Avec les progrès constants des technologies d'affichage, les exigences de performance des couches minces dans ce domaine deviennent de plus en plus strictes, nécessitant un contrôle précis de paramètres tels que l'uniformité, l'épaisseur, la rugosité de surface, la résistivité et la constante diélectrique. 1. Types de films utilisés dans l'affichage

Outre les couches minces TFT-LCD et OLED, l'affichage comprend également des films d'électrodes de câblage et des films d'électrodes de pixels transparents. Le procédé de revêtement est essentiel à la fabrication des écrans TFT-LCD et OLED. Avec les progrès constants des technologies d'affichage, les exigences de performance des couches minces dans ce domaine deviennent de plus en plus strictes, nécessitant un contrôle précis de paramètres tels que l'uniformité, l'épaisseur, la rugosité de surface, la résistivité et la constante diélectrique.

2. Taille des écrans plats

Dans l'industrie des écrans plats, la taille du substrat en verre utilisé sur la ligne de production sert généralement à la segmenter. En production, on fabrique d'abord un substrat de grande taille, puis on le découpe aux dimensions de l'écran. Plus le substrat est grand, plus il est adapté à la fabrication d'écrans grand format. Actuellement, la technologie TFT-LCD est conçue pour la production d'écrans de plus de 50 pouces (3000 mm x 3320 mm) sur les lignes de 11e génération, tandis que la technologie OLED est adaptée à la production d'écrans de 18 à 37 pouces (1500 mm x 1850 mm) sur les lignes de 6e génération. Bien que la taille du substrat en verre n'ait pas d'incidence directe sur les performances finales de l'écran, le traitement de substrats de grande taille offre une productivité accrue et des coûts réduits. Par conséquent, la fabrication d'écrans grand format représente un axe de développement majeur pour l'industrie de l'affichage. Cependant, ce type de traitement se heurte à des problèmes d'uniformité et de taux de qualité insuffisants, qui sont principalement résolus par la modernisation des équipements et l'amélioration des technologies.

Par ailleurs, il est nécessaire de prendre en compte la température de support du substrat lors de la fabrication du film d'affichage. La réduction de cette température permet d'élargir le champ d'application du film et d'en diminuer le coût. En parallèle, le développement des écrans flexibles impose des exigences plus strictes aux substrats flexibles non résistants aux hautes températures (notamment le verre ultra-mince, les plastiques souples et les fibres de bois). Actuellement, les substrats polymères flexibles les plus couramment utilisés résistent généralement à des températures inférieures à 300 °C ; c'est le cas notamment du polyimine (PI), des composés polyaryliques (PAR) et du polyéthylène téréphtalate (PET).

Comparativement à d'autres méthodes de revêtement,technologie de revêtement ioniqueLa technologie de revêtement ionique permet de réduire efficacement la température de fabrication des couches minces. Les films d'affichage ainsi obtenus présentent d'excellentes performances, une uniformité de production sur de grandes surfaces et répondent aux exigences des dispositifs d'affichage. Avec un taux de réussite élevé, cette technologie est largement utilisée dans la production industrielle et la recherche scientifique de films d'affichage. Le revêtement ionique est une technologie clé dans le domaine de l'affichage, ayant favorisé l'émergence, l'application et le développement des écrans TFT-LCD et OLED.