У галіне вакуумнага пакрыцця мадэрнізацыя абсталявання часта разумеецца як даданне большай колькасці катодаў, павелічэнне магутнасці, пашырэнне камеры або павышэнне ўзроўню аўтаматызацыі. Гэтыя мадэрнізацыі сапраўды могуць палепшыць вытворчыя магутнасці. Аднак у рэальных вытворчых праектах поспех электроннага...
Пры вытворчасці варыстараў, керамічных кандэнсатараў і адпаведных керамічных падкладак металізацыя клемных электродаў доўгі час з'яўлялася найважнейшым працэсам, які непасрэдна вызначаў прадукцыйнасць прадукцыі, структуру выдаткаў і стабільнасць. Традыцыйна прамысловасць абапіралася на друк з дапамогай сярэбранай пасты...
Тэхналогія вакуумнага пакрыцця шырока прызнана сваёй экалагічнасцю, высокай эфектыўнасцю, выдатнай аднастайнасцю плёнкі і высокай шчыльнасцю плёнкі. У прамысловым ужыванні абсталяванне для вакуумнага пакрыцця звычайна класіфікуецца на дзве асноўныя катэгорыі: фізічнае асаджэнне з паравой фазы (PVD) і хімічнае...
За апошняе дзесяцігоддзе радар міліметровага дыяпазону (mmWave) ператварыўся з нішавага датчыка ў некалькіх дарагіх аўтамабілях у крытычна важную перцэптыўную інфраструктуру ў інтэлектуальных аўтамабілях. Ад адаптыўнага круіз-кантролю (ACC) і аўтаматычнага экстранага тармажэння (AEB) да ўсё больш распаўсюджанай хуткаснай навігацыі...
У сектары вытворчасці электронікі праводнасць і надзейнасць керамічных кандэнсатараў і рэзістараў з'яўляюцца найважнейшымі фактарамі, якія вызначаюць тэрмін службы вырабаў. Традыцыйна ў галіне выкарыстоўвалася гальванічнае пакрыццё срэбрам або трафарэтны друк срэбнай пастай для стварэння пласта срэбра таўшчынёй 20 мкм, што забяспечвала...
Па меры таго, як індустрыя друкаваных плат працягвае сваю эвалюцыю ў бок высокашчыльных міжзлучальных злучэнняў (HDI), падкладак для ІС і перадавых тэхналогій упакоўкі, мікрасвердзел стаў найважнейшым інструментам апрацоўкі, дакладнасць, даўгавечнасць і стабільнасць якога непасрэдна ўплываюць на эфектыўнасць вытворчасці і якасць прадукцыі. Прывад...
У перадавых працэсах вакуумнага пакрыцця дакладны кантроль складу тонкай плёнкі мае важнае значэнне для дасягнення жаданых аптычных, механічных і функцыянальных уласцівасцей. Шматмэтавае пераключэнне, тэхніка, шырока ўжывальная ў сістэмах PVD, магнетроннага распылення і іённа-асіставанага нанясення пакрыццяў, адыгрывае крытычную ролю...
Бесперапынная вытворчасць у вакуумных умовах нанясення пакрыццяў стварае унікальныя праблемы, якія непасрэдна ўплываюць на стабільнасць абсталявання, паўтаральнасць працэсу і якасць тонкай плёнкі. У высокапрадукцыйных лініях PVD, магнетроннага распылення, ALD або PECVD падтрыманне стабільных параметраў нанясення пакрыццяў на працягу працяглага часу...
Прадмова: Ад міжзлучальных злучэнняў да праблем мікраннага ўзроўню З хуткім развіццём сувязі 5G, сервераў штучнага інтэлекту і перадавых тэхналогій упакоўкі вытворчасць друкаваных плат (ПХБ) ператварылася ў платформу высокай шчыльнасці на аснове мікраадводаў. Укараненне плат HDI, шматслаёвых ПХБ,...
У тэхналогіях вакуумнага пакрыцця тонкія плёнкі з высокім (HR) і нізкім (AR) адлюстраваннем ствараюць розныя праблемы і патрабаванні, якія непасрэдна ўплываюць на канструкцыю абсталявання, кіраванне працэсамі і стратэгіі нанясення. Хоць абодва тыпы пакрыццяў залежаць ад дакладнага кантролю таўшчыні плёнкі, стэіч...
У тэхналогіях вакуумнага пакрыцця прысутнасць рэшткавых газаў у камеры нанясення можа істотна паўплываць на структурныя, аптычныя і механічныя ўласцівасці тонкіх плёнак. Незалежна ад таго, ці выкарыстоўваюцца працэсы PVD, магнетроннага распылення, ALD або PECVD, рэшткавыя газавыя часціцы, у тым ліку вадзяная пара, кісларод...
У сучаснай вытворчасці вакуумных пакрыццяў высокія нагрузкі ствараюць значныя праблемы для стабільнасці і паслядоўнасці нанясення тонкіх плёнак. Па меры павелічэння патрабаванняў да высокай прадукцыйнасці, вялікіх памераў падкладак і шматслаёвых складаных пакрыццяў, сістэмы вакуумнага пакрыцця — няхай гэта будзе PVD, магнітныя...
У сучасных тэхналогіях вакуумнага нанясення пакрыццяў аптычныя характарыстыкі тонкіх плёнак непарыўна звязаны са складам і якасцю матэрыялу мішэні, які выкарыстоўваецца ў працэсах нанясення. Незалежна ад таго, ці выкарыстоўваецца PVD, магнетроннае распыленне, ці перадавыя сістэмы ALD і PECVD, мішэнь служыць фундаментальным элементам...
Пры фізічным асаджэнні з паравой фазы (PVD) і звязаных з імі працэсах вакуумнага пакрыцця чысціня плёнкі часта спрашчана асацыюецца з унутранай чысцінёй мэтавых або зыходных матэрыялаў. Аднак у практычнай вытворчасці канчатковая чысціня напыленай плёнкі вызначаецца не толькі складам матэрыялу, але і...
У працэсах вакуумнага пакрыцця хуткасць нанясення пакрыццяў з'яўляецца адным з ключавых параметраў, якія вызначаюць як эфектыўнасць вытворчасці, так і ўласцівасці плёнкі. Аднак празмерна высокая або нізкая хуткасць нанясення пакрыццяў можа непасрэдна паўплываць на якасць плёнкі, тым самым уплываючы на яе аптычныя, электрычныя і механічныя характарыстыкі. Стр...